[实用新型]一种用于制作量子线超微细图形的光刻掩模无效
| 申请号： | 95203680.0 | 申请日： | 1995-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN2251151Y | 公开（公告）日： | 1997-04-02 |
| 发明（设计）人： | 付绍军;夏安东;田杨超;洪义麟;阚娅;陶晓明;胡一贯;张新夷 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国科学技术大学专利事务所 | 代理人： | 陈进 |
| 地址： | 230026*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 制作 量子 微细 图形 光刻 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于制作量子线超微细图形的光刻掩模，包括有透明衬底的量子金属线图形，其特征在于所述的量子金属线图形依附在透明衬底垂直凸起的光栅的两个侧壁上。
2.如权利要求1所述的光刻掩模，其特征在于所述透明衬底的周边上能够设置有刚性支承件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学技术大学，未经中国科学技术大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/95203680.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：具有可更换保护层的高炉十字测温装置
- 下一篇：用于硫酸设备的钢板搪铅防腐壳体
