[发明专利]取代的苯并异噁唑和苯并异噻唑除草剂

权利要求书

1.一种具有下述结构式的化合物

其中

R为氢，卤素，C₁-C₄烷基，C₁-C₄卤代烷基，C₁-C₄烷氧基或C₁-C₄卤代烷氧基；

R₁为卤素，X₁R₂或R₂；

X和X₁分别独立地为O或S；

R₂为氢，

可任选地被下述基团取代的C₁-C₄烷基，这些基团为一个至三个卤原子，一个至三个C₁-C₄烷氧基，一个至三个C₁-C₄烷硫基，一个氰基，一个COR₃基，一个CO₂R₄基，一个CONR₅R₆基或一个任选地被一个至三个卤原子，一个至三个C₁-C₄烷基，一个至三个C₁-C₄烷氧基，一个C₃-C₆环烷基，一个C₁-C₄卤代烷基，一个C₁-C₄烷硫基，一个氰基，一个硝基，一个COR₇基，一个CO₂R₈基或一个OR₉基取代的苯基，

可任选地被下述基团取代的C₃-C₇环烷基，这些基团为一个至三个卤原子，一个至三个C₁-C₄烷氧基，一个至三个C₁-C₄烷硫基，一个氰基，一个COR₃基，一个CO₂R₄基，一个CONR₅R₆基或一个任选地被一个至三个卤原子，一个至三个C₁-C₄烷基，一个至三个C₁-C₄烷氧基，一个C₃-C₆环烷基，一个C₁-C₄卤代烷基，一个C₁-C₄烷硫基，一个氰基，一个硝基，一个COR₇基，一个CO₂R₈基或一个OR₉基取代的苯基，

可任选地被下述基团取代的C₂-C₆链烯基，这些基团为一个至三个卤原子，一个至三个C₁-C₄烷氧基，一个至三个C₁-C₄烷硫基，一个氰基，一个COR₃基，一个CO₂R₄基，一个CONR₅R₆基或一个任选地被一个至三个卤原子，一个至三个C₁-C₄烷基，一个至三个C₁-C₄烷氧基，一个C₃-C₆环烷基，一个C₁-C₄卤代烷基，一个C₁-C₄烷硫基，一个氰基，一个硝基，一个COR₇基，一个CO₂R₈基或一个OR₉基取代的苯基，

可任选的被下述基团取代的C₄-C₇环链烯基，这些基团为一个至三个卤原子，一个至三个C₁-C₄烷氧基，一个至三个C₁-C₄烷硫基，一个氰基，一个COR₃基，一个CO₂R₄基，一个CONR₅R₆基或一个任选地被一个至三个卤原子，一个至三个C₁-C₄烷基，一个至三个C₁-C₄烷氧基，一个C₃-C₆环烷基，一个C₁-C₄卤代烷基，一个C₁-C₄烷硫基，一个氰基，一个硝基，一个COR₇基，一个CO₂R₈基或一个OR₉基取代的苯基，

可任选地被下述基团取代的C₂-C₆炔基，这些基团为一个至三个卤原子，一个至三个C₁-C₄烷氧基，一个至三个C₁-C₄烷硫基，一个氰基，一个COR₃基，一个CO₂R₄基，一个CONR₅R₆基或一个任选地被一个至三个卤原子，一个至三个C₁-C₄烷基，一个至三个C₁-C₄烷氧基，一个C₃-C₆环烷基，一个C₁-C₄卤代烷基，一个C₁-C₄烷硫基，一个氰基，一个硝基，一个COR₇基，一个CO₂R₈基或一个OR₉基取代的苯基，或

任选地被一个至三个卤原子，一个至三个C₁-C₄烷基，一个至三个C₁-C₄烷氧基，一个C₃-C₆环烷基，一个C₁-C₄卤代烷基，一个C₁-C₄烷硫基，一个氰基，一个硝基，一个COR₃基，一个CO₂R₄基或一个OR₉基取代的苯基；

R₃，R₅，R₆和R₇分别独立地为氢，C₁-C₄烷基，C₂-C₄链烯基，C₂-C₄炔基，苄基或苯基；

R₉为被一个CO₂R₁₀基取代的C₁-C₄烷基；

R₄，R₈和R₁₀分别独立地为氢，C₁-C₄烷基，C₂-C₄链烯基，C₂-C₄炔基，苄基，苯基或碱金属，碱土金属，锰，铜，锌，钴，银或镍阳离子；

Q为选自下列的基团：

R₁₁和R₁₂分别独立地为氢，任选的被一个或多个卤原子取代的C₁-C₆烷基，或任选地被一个或多个卤原子取代的C₃-C₆环烷基，和

当R₁₁及R₁₂和它们与之相连的原子合起来时，它们代表任选地被O，S或N隔断，且任选地被一个至三个甲基或一个或多个卤原子取代的四至七元饱和或不饱和环；

R₁₃，R₁₄和R₁₅分别独立地为氢或C₁-C₃烷基；

A和A₁分别独立地为O或S；

V为羟基，卤素，C₁-C₃烷氧基或C₁-C₃烷硫基；

W为卤素或C₁-C₃烷基；和

Z为N或CH。