[发明专利]用于无机基质的涂覆组合物无效
申请号: | 96103906.X | 申请日: | 1996-03-27 |
公开(公告)号: | CN1054390C | 公开(公告)日: | 2000-07-12 |
发明(设计)人: | 理查德·魏德纳;沃克尔·弗赖;英格伯格·科尼希-卢默尔;汉斯·迈尔 | 申请(专利权)人: | 瓦克化学有限公司 |
主分类号: | C09D183/04 | 分类号: | C09D183/04 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 程伟 |
地址: | 联邦德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 无机 基质 组合 | ||
1、以含水溶性高聚物和有机硅化合物的水再分散性粉末为基础的涂覆组合物,其中所述有机硅化合物含有至少一种粘度不超过5000mm2/s(25℃)的低分子量有机硅化合物,和至少一种粘度至少100000mm2/s(25℃)或室温为固态的高分子量有机聚硅氧烷树脂。
2、如权利要求1的涂覆组合物,其中低分子量有机硅化合物粘度为0.5-200mm2/s(25℃)。
3、如权利要求1或2的涂覆组合物,其中低分子量的有机硅化合物是下式之化合物或含下式单元之化合物:
Ra(R1O)bSiO4-(a+b)/2 (I)其中
R各情况下可相同或可不同,是单价有机基团,
R1各情况下可相同或不同,是氢原子或烷基,
a是0、1、2或3,和
b是0、1、2、3或4,其先决条件是a+b之和小于或等于4,且该有机硅化合物之粘度不超过5000mm2/s(25℃)。
4、如权利要求1的涂覆组合物,其中高分子量有机聚硅氧烷树脂是含下式单元之树脂:
R2c(R3O)dSiO4-(c+d)/2 (II)
R2各情况下可相同或不同,与R定义相同,
R3各情况下可相同或不同,与R1定义相同,
C是0、1、2或3,和
d是0、1、2或3,其先决条件是c+d之和小于或等于3,但这些有机聚硅氧烷树脂粘度至少为100000mm2/s(25℃),或室温下为固体。
5、如权利要求1的涂覆组合物,其中低分子量有机硅化合物的比例为3-100%重量,按所用高分子量有机聚硅氧烷树脂的总重量计算。
6、如权利要求1的涂覆组合物,其中,以水溶性高聚物、低分子量有机硅化合物和高分子量聚有机硅氧烷树脂为基础的所述组合物中的水再分散性粉末之总含量是1-60%重量,按该涂覆组合物的总重计算。
7、制备涂层的方法,其包括将如任一前述权利要求所述的涂覆组合物涂敷于基质上。
8、如权利要求7的方法,其中所述基质为无机基质,金属,木料或塑料。
9、如权利要求7或8的方法,其中所述基质为无机基质。
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