[发明专利]回转窑供气装置无效

专利信息
申请号: 96105976.1 申请日: 1996-04-11
公开(公告)号: CN1133965A 公开(公告)日: 1996-10-23
发明(设计)人: H·黑尔克 申请(专利权)人: 拜尔公司
主分类号: F27B7/36 分类号: F27B7/36
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 黄力行
地址: 联邦德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 回转 供气 装置
【说明书】:

本发明涉及一种改进的回转窑供气装置,特别涉及对回转窑内待煅烧的材料供气的装置,在该回转窑中气体通过其壳体被送入。工业上常使用回转窑进行高温下的固体/气体反应,例如,矿石的氧化还原反应。为了这个目的,粉矿在回转窑中被加热到还原温度,并在这个温度下与回转窑中的含氧气体接触。其所需要的停留时间常常取决于含氧气体与待煅烧材料的接触密集程度,回转窑气氛中的氧浓度以及氧渗入到回转窑材料床中的能力起很重要的作用。特别在回转窑靠热燃烧气体直接加热时,回转窑气氛中的氧含量几乎超过10%。因此,将回转窑中反应所需的氧或其它气体直接喷入待煅烧的材料床中是较理想的。然而,在从固定源向喷嘴供气时存在这样的问题:喷嘴要与窑壳体一起相对回转窑的轴转动。

类似的德国专利申请流水号P4334795.5公开了一种供气装置,它借助一个与回转窑相连的圆环,经过一个滑动的环形通道向回转窑供气。该圆环上有一个带有进入回转窑的孔或入口的环形通道,并且被嵌入到一个静止的、围绕着该圆环的同心槽中。

该槽与外部气源相连并与圆环的环形通道一起形成一个气体供应室,这个室被同心的密封元件密封。

在这种结构中,由于周边上的密封圈而导致了很大的磨擦力。此外,也不可能控制向窑内、特别是向待煅烧材料区域的供气。

借助本发明的向回转窑供气的装置可解决上述总题,该装置包括有供气喷嘴,它穿过回转窑壳体并由基本上固定的供气管线供气,

其特征在于一个供气管最好有两个平行的侧表面,供气管同心地围绕着窑的壳体,它最好被内部过渡墙分成至少6个环段,这些环段各自靠至少一个供气管线与喷嘴相连,

其特征还在于供气管线嵌入到一个带有一外部供气装置的固定支架中,

这里,支架与管子的一个侧表面一起形成一个供气室,该室是被一个环状的、滑动的密封件密封的,在每个环段的至少一个侧面上至少有两个含进气阀的孔口,

并且,其中的一个进气孔口总是封闭在供气室中,且在管子的另一侧以一种反向支承的形式设置一滑动表面,

采用供气滑动环形通道存在的问题是在移动和固定部件之间一般不允许有较大的间隙。例如,长度为30米到50米、直径为3米到5米的大型工业回转窑由于圆周线上的精确的、旋转的对称运动呈现出从几毫米到几厘米的很大偏差。本发明的装置不仅只允许供气管线在径向方向上相对支架运动,(即垂直于回转窑轴线—平的供气管侧表面上的密封装置在径向方向上滑动),而且特别是架子浮动地悬起来时,还允许供气装置在轴向方向的一定运动。本发明装置的优点在于滑动密封与供气管的侧表面之间的接触表面比较小。因为不需要密封装置围住窑的炉壳,所以没有由于如供气管侧表面的制造偏差和变形带来的密封问题。该装置的密封件不易损坏并且装置运行可靠。

由于分成了几个环段,特别是至少6个环段,可以限制只向窑内特别选择的区域供气,例如,只向供气室或只向被待煅烧材料覆盖的窑部份供气。在某一时间内只有至少一个孔口位于供气室内的一个管环段通气。

全部的其它环段保持在内部压力下。

因为架子只设置在供气管的一部分上,所以即使在窑运行时也可为了清洁和维修的目的而拆下它。

架子最好安装成在供气管产生任何的轴向运动时,仍能可靠地使其避免与供气管线同时旋转、摇动或与供气管碰撞。

通常用作滑动密封件的材料是聚四氟乙稀,还可选择地用玻璃纤维和/或石墨粉,例如,以一种长纤维的形式使上述材料强化。

通常的金属管可用来作供气支架。

在一个最佳的变化形式中,架子是以这样一种形式设计的,使供气管的至少两个孔口总是放在供气室内。特别是横过供气室孔口的滑动密封区域至少在宽度上与所述孔口的宽度一样,以便避免气体泄漏到周围区域中。供气管和供气管线可通过已知的普通类型的分配管连接起来。

附加的最佳实施例在从属权利要求中进行描述。

下面将结合附图对本发明进行更详细的解释:

图1是垂直于回转窑轴线的剖面图,

图2是包含供气管和支架部份的本发明装置放大的局部截面图,

图3是通过包含回转窑轴线的一平面的放大的局部截面图(对应图1中的A—B截面),

图4是一个放大的局部截面图(对应图1中的C-D截面)。

除非另外说明,在各图中相同的标号表示相同的部件。

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