[发明专利]光掩模的图形结构无效
| 申请号： | 96111014.7 | 申请日： | 1996-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN1096625C | 公开（公告）日： | 2002-12-18 |
| 发明（设计）人： | 黄儁 | 申请（专利权）人： | 现代电子产业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 萧掬昌,傅康 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光掩模 图形 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种光掩模，包括石英基片和光掩蔽图形，其特征在于：将所说光掩蔽图形的边缘部分形成锯齿形结构。
2.如权利要求1所述的光掩模，其特征在于：每个锯齿的形状为矩形。
3.如权利要求1所述的光掩模，其特征在于：每个锯齿的形状为三角形。
4.如权利要求2所述的光掩模，其特征在于：每个所说锯齿的宽度、高度和相邻锯齿间的距离为所用光波波长的±0.1μm。
5.如权利要求要求2所述的光掩模，其特征在于：每个所说锯齿的宽度、高度和相邻锯齿间的距离为所用光波波长的±0.25μm。
6.如权利要求2所述的光掩模，其特征在于：每个所说锯齿的宽度、高度和相邻锯齿间的距离为所用光波波长的±0.5μm。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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