[发明专利]使金属层构成图案的方法

权利要求书

1、使一个形成在基底上的金属层构成图案的方法，该方法包括以下步骤：

(a)在金属层上形成一个形成有图案的掩模层，该掩模层的形状使得在其上容易形成薄膜；及

(b)使该金属层构成一个与形成有图案的掩模层相同构型的图案。

2、如权利要求1的方法，其中，步骤(a)包括下列步骤：

(a1)在金属层上沉积掩模层；

(a2)使用离子注入法在掩模层上形成离子注入层；

(a3)在离子注入层上形成光刻胶层；

(a4)通过蚀刻掩模的一部分，形成第一倾斜壁；和

(a5)通过蚀刻掩模层的另一部分，形成第二倾斜壁，由此获得形成有图案的掩模层。

3、如权利要求1的方法，其中，金属层是由磁性材料制成的。

4、如权利要求3的方法，其中，磁性材料由坡莫合金制成。

5、如权利要求4的方法，其中，磁层具有8-10μm的厚度。

6、如权利要求2的方法，其中，掩模层由二氧化硅(SiO₂)制成。

7、如权利要求2的方法，其中，掩模层是用蚀刻剂来蚀刻的，该蚀刻剂由氟化铵(NH₄F)和氟化氢(HF)制成。

8、如权利要求2的方法，其中，掩模层具有9-20μm的厚度。

9、如权利要求1的方法，其中，金属层采用离子磨削方法来构成图案的。

10、形成下磁极的方法，该方法包括下列步骤：

(a)在基底上形成磁层；

(b)在磁层上面沉积掩模层；

(c)使用离子注入法在掩模中形成离子注入层；

(d)使用蚀刻剂，蚀刻掩模层的一部分，以形成第一倾斜壁；

(e)使用蚀刻剂，蚀刻掩模层的另一部分，以形成第二倾斜壁，由此获得形成有图案的掩模层；及

(f)使用离子磨削法，使磁层形成与形成有图案的掩模层相同的构型的图案，以此获得下磁极。