[发明专利]多束电子光刻系统的电子柱光学器件无效

专利信息
申请号: 96120563.6 申请日: 1996-11-12
公开(公告)号: CN1172973A 公开(公告)日: 1998-02-11
发明(设计)人: N·威廉帕克 申请(专利权)人: 离子诊断公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/30
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 余朦
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 电子 光刻 系统 光学 器件
【权利要求书】:

1.用于使电子源在远端表面上成像的电子柱光学器件,其特征在于,该光学器件包括:

一个电子源;

一个为接收来自该电子源的电子并用来将电子的第一加速度提供到第一加速度范围而设置的第一电透镜组件,该第一电透镜组件进一步用来基本上补偿由第一加速度产生的像散现象;和

一个为接收来自第一电透镜组件的有第一加速度范围的电子,并用来将电子的第二加速度提供到第二加速度范围而设置的第二电透镜组件,与远端表面结合,该第二电透镜组件进一步用来将接收的电子聚焦在该远端表面上。

2.根据权利要求1的述的电子柱光学器件,其特征在于,电子柱光学器件定义一个光轴,电子源设置在一端,远端表面设置在另一端,第一和第二电透镜组件沿光轴设置在电子源和远端表面之间。

3.根据权利要求2的述的电子柱光学器件,其特征在于,电子源包括用于产生多个电子束的多个像素,该多个像素通常定义一个垂直于光轴的短轴,和一个比该短轴长,垂直于该光轴的长轴。

4.根据权利要求3的述的电子柱光学器件,其特征在于,第一电透镜组件包括一个沿该源的长轴平行延伸一般为矩形的狭缝孔径。

5.根据权利要求4的述的电子柱光学器件,其特征在于,一般为矩形的狭缝孔径被施加比从电子源发射的电子的电势相对低的电势。

6.根据权利要求4的述的电子柱光学器件,其特征在于,第一电透镜组件进一步包括沿光轴设置并由被施加第一电势的入口定义的二重透镜,一对定义与电子源的长轴平行延伸并且也沿光轴延伸的通道的隔开的电极,该对电极被施加比第一电势高的第二电势,和一个被施加第一电势的出口,该二重透镜沿光轴设置以便接收来自狭缝孔径的电子。

7.根据权利要求6的述的电子柱光学器件,其特征在于,第二电透镜组件包括定义沿该光轴轴向对准多个分开的孔径的结构。

8.根据权利要求1的述的电子柱光学器件,其特征在于,电子源的每个像素一般以矩形形状形成,每个像素具有一个与电子源的短轴平行的长轴和一个与电子源的长轴平行的短轴,第一和第二电透镜组件具有组合的放大率,以使在远端表面上成像,每个像素基本为方形。

9.根据权利要求8的述的电子柱光学器件,其特征在于,第一和第二电透镜组件的组合放大率小于1。    

10.一种使电子源在远端表面上成像的方法,其特征在于,包括步骤:

提供包括用于产生多个电子束的多个像素的电子源,该多个像素通常定义一个垂直于光轴的短轴,和一个比该短轴长,垂直于该光轴的长轴;

以设置在一端的电子源和设置在另一端的远端电子接收表面定义一个光轴;

将来自该电子源的电子加速到第一加速度范围并补偿由该第一加速度产生的像散现象;和

将处在第一加速度范围内的电子加速到第二加速度范围并使电子源在该远端表面上成像。

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