[发明专利]形成微图案的光照方法和装置无效

专利信息
申请号: 96123105.X 申请日: 1996-12-09
公开(公告)号: CN1101007C 公开(公告)日: 2003-02-05
发明(设计)人: 全成镐;李圣默;赵倍斗 申请(专利权)人: 现代电子产业株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/027
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 张政权
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 形成 图案 光照 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种通过光源成像于晶圆片上形成图案的光照方法,其特征在于包含以下步骤:

提供偏振光作为光源;

调节决定反差的偏振光的偏振角;

调整决定反差间隙的偏振光的椭圆率;

由此优化照射到晶圆片上的图像的反差和反差间隙。

2.如权利要求1所述的光照方法,其特征在于偏振度由下列方程计算:

     Ψx(f,g)=[-gScom+fPcom{1-λ2(f2+g2)}1/2]/[f2+g2]1/2

     Ψy(f,g)=[fScom+gPcom{1-λ2(f2+g2)}1/2]/[f2+g2]1/2

     Ψz(f,g)=-λPcom[f2+g2]1/2

这里Ψx(f,g)、Ψy(f,g)、Ψz(f,g)分别为到掩模上入射光偏振分布函数Ψ(f,g)的x、y、z方向分量,f、g则为空间频率分量;以及

            Scom={fEoye-gEox}/{f2+g2}1/2

            Pcom={fEox+gEoye}/{f2+g2}1/2

这里Scom和Pcom分别为垂直和平行于子午面的S和P偏振分量,Eox和Eoy分别表示x和y方向上的振幅,而δx和δy分别表示x和y方向上的相位。

3.如权利要求1所述的光照方法,其特征在于偏振光为椭圆偏振光。

4.如权利要求1所述的光照方法,其特征在于偏振光为圆偏振光。

5.一种通过将从光源经孔径、聚焦透镜、曝光掩膜和投射透镜的光线照射到晶圆片上在晶圆片上形成图案的光照装置,其特征在于包含:

使光偏振的偏振片,其中偏振片调整决定反差的偏振光的偏振角和决定反差间隙的椭圆形率。

6.如权利要求5所述的光照装置,其特征在于由偏振片偏振的光为椭圆偏振光。

7.如权利要求5所述的光照装置,其特征在于由偏振片偏振的光为圆偏振光。

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