[发明专利]对光接收信号具有高线性度信号电流的光电二极管无效
申请号: | 96123177.7 | 申请日: | 1996-12-20 |
公开(公告)号: | CN1168540A | 公开(公告)日: | 1997-12-24 |
发明(设计)人: | 西片一昭;入川理德 | 申请(专利权)人: | 古河电气工业株式会社 |
主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 张政权 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 对光 接收 信号 具有 线性 电流 光电二极管 | ||
1.一种管脚状光电二极管,其特征在于包含由GaInAsP层组成的光学吸收层和由靠近光学吸收层的p-型AlGaInAs层组成的p-型半导体层。
2.如权利要求1所述的光电二极管,其特征在于由GaInAsP层组成的光学吸收层与由靠近光学吸收层的p-型AlGaInAs层组成的p-型半导体层之间的价带失配差设定得不大于0.05eV。
3.如权利要求2所述的光电二极管,其特征在于光学吸收层由吸收边缘波长从1.65-1.55微米的GaInAsP层组成,而p-型半导体层由吸收边缘波长为1.55-1.30微米的p-型AlGaInAs层组成。
4.如权利要求2所述的光电二极管,其特征在于光学吸收层由吸收边缘波长为1.56-1.36微米的GaInAsP层组成,而p-型半导体层由吸收边缘波长为1.30-1.14微米的p-型AlGaInAs层组成。
5.如权利要求1-4中任一项所述的光电二极管,其特征在于其为光波导结构。
6.一种管脚状光电二极管,其特征在于包括:
n-型InP衬底;
由形成于n-型InP衬底上的n-型InP层或者n-型AlInAs层组成的n涂层,其晶格与n型InP衬底匹配;
由形成于n涂层上的n-型GaInAsP层或者n-型AlGaInAs层组成的n光波导层,n-型GaInAsP层或者n-型AlGaInAs层不吸收波长为1.55微米的光线并且其晶格与n型InP衬底匹配;
由形成于n光波导层上的非掺杂或者低掺杂的GaInAs层或GaInAsP层组成的光学吸收层,GaInAs层或GaInAsP层吸收波长为1.55微米的光线并且其晶格与n光波导层匹配;
由形成于光学吸收层上的p-型AlGaInAs层或者p-型AlGaInAs层组成的p光波导层,p-型AlGaInAs层或者p-型AlGaInAs层不吸收波长为1.55微米的光线并且其晶格与光学吸收层匹配;以及
由在p光波导层上形成的p-型InP层或者p-型AlGaInAs层组成的p涂层,p-型InP层或者p-型AlGaInAs层不吸收波长为1.55微米的光线并且其晶格与p光波导层匹配,
其中光线平行于各层入射。
7.一种波导光电二极管,其特征在于包含:
n-型InP衬底;
由形成于n-型InP衬底上的n-型InP层或者n-型AlInAs层组成的n涂层,其晶格与n型InP衬底匹配;
由形成于n涂层上的n-型GaInAsP层或者n-型AlGaInAs层组成的n光波导层,n-型GaInAsP层或者n-型AlGaInAs层不吸收波长为1.3微米的光线并且其晶格与n型InP衬底匹配;
由形成于n光波导层上的非掺杂或者低掺杂的GaInAs层或GaInAsP层组成的光学吸收层,GaInAs层或GaInAsP层吸收波长为1.3微米的光线并且其晶格与n光波导层匹配;
由形成于光学吸收层上的p-型AlGaInAs层或者p-型AlGaInAs层组成的p光波导层,p-型AlGaInAs层或者p-型AlGaInAs层不吸收波长为1.3微米的光线并且其晶格与光学吸收层匹配;以及
由在p光波导层上形成的p-型InP层或者p-型AlGaInAs层组成的p涂层,p-型InP层或者p-型AlGaInAs层不吸收波长为1.3微米的光线并且其晶格与p光波导层匹配,
其中光线平行于各层入射。
8.如权利要求1-4所述的光电二极管,其特征在于所述光电二极管为面入射型,并包含:
n-型InP衬底;
由形成于n-型InP衬底上的非掺杂或者n-型低掺杂的GaInAs层或GaInAsP层组成的光学吸收层;
形成于光学吸收层上的吸收边缘波长为1.55-1.14微米的AlGaInAs;以及
通过扩散或者离子注入p型杂质形成于AlGaInAs层内的p型区域。
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