[发明专利]正性光致抗蚀剂的显影方法和所用的组合物

权利要求书

1．一种正性光致抗蚀剂薄膜的基片的显影方法，该方法主要包括以下步骤：将包括含水氢氧化铵类的碱和氟化烷基烷氧基化物类的表面活性剂的含水碱类显影剂组合物涂覆到所述薄膜上，其中所述表面活性剂的含量为10至30ppm(重量)，随后将该显影剂组合物从所述薄膜上漂洗掉。

2．根据权利要求1的方法，其中在所述显影剂组合物中的氢氧化铵类的碱的浓度为0.15至0.5当量。

3．根据权利要求1的方法，其中在所述显影剂组合物中的氢氧化铵类的碱的浓度为0.2至0.35当量。

4．根据权利要求1的方法，其中在所述显影剂组合物中的氢氧化铵类的碱的浓度为0.261当量。

5．根据权利要求1的方法，其中所述氢氧化铵类的碱选自氢氧化四甲铵、氢氧化三甲基乙醇铵、氢氧化四(2-羟乙基)铵及其混合物。

6．根据权利要求5的方法，其中所述氢氧化铵类的碱是氢氧化四甲铵。

7．根据权利要求1的方法，其中所述基片包括酚醛树脂和重氮萘醌类光敏化合物。

8．根据权利要求1的方法，其中所述氟化烷基烷氧基化物包括Ⅰ、Ⅱ和Ⅲ部分，其中Ⅰ是Ⅱ是和Ⅲ是或式中n和m是相同的或不同的且是2-20的整数，R是氢或甲基、乙基或丙基、或丁基烷基。

9．根据权利要求1的方法，其中所述氟化烷基烷氧基化物属于以下结构式：式中R₁和R₃是相同的或不同的且是C₁-C₁₀烷基，R₂是C₁-C₁₀亚烷基，n和m是2-20的整数。

10．根据权利要求9的方法，其中所述氟化烷基烷氧基化物属于下式：式中n是为5至15的整数，优选为10。