[发明专利]用作加压素拮抗剂的双环苯并吖庚因衍生物

权利要求书

1、一种选自通式I的化合物和其可成药盐：其中，E-Y选自：-CH＝CH-、、-CH₂-CH₂-，当Y为-CH₂-时，E选自：

-CHOH、-CHO-低级烷基(C₁-C₆)、-CH-S-低级烷基(C₁-C₆)、-CHNH₂、-CHN-低级烷基(C₁-C₆)、-C[N-低级烷基(C₁-C₆)]₂、-CHOCO-低级烷基(C₁-C₆)、-CHNH(CH₂)_mNH₂；-CHNH(CH₂)_m-NH-低级烷基(C₁-C₆)、-CHNH(CH₂)_m-N[低级烷基(C₁-C₆)]₂；-CHNH(CH₂)_m-S-低级烷基(C₁-C₆)、-CHNH(CH₂)_m-O-低级烷基(C₁-C₆)、S、O、-NH、-N-低级烷基(C₁-C₆)、-NCO-低级烷基(C₁-C₆)，m为整数2-6；代表：(1)含2个氮原子的稠合的不饱和6-元杂芳环，其可选择性地被1个或2个取代基取代，取代基选自：(C₁-C₃)低级烷基、卤原子、氨基、(C₁-C₃)低级烷氧基或(C₁-C₃)低级烷氨基；(2)含1个选自O、N或S的杂原子的5-元芳(不饱和)杂环；(3)含2个相邻氮原子的5-元芳(不饱和)杂环；(4)含1个氮原子及1个氧原子或硫原子的5-元芳(不饱和)杂环；其中，5或6-元杂环可选择性地被(C₁-C₃)低级烷基、卤原子或(C₁-C₃)低级烷氧基取代；R³为-COAr，其中Ar选自：其中，X选自：O、S、-NH、-NCH₃和-NCOCH₃；R⁴选自：H、低级烷基(C₁-C₃)、-CO-低级烷基(C₁-C₃)、-SO₂-低级烷基(C₁-C₃)；R¹和R²选自：H、(C₁-C₃)低级烷基、(C₁-C₃)低级烷氧基和卤原子；R⁵选自：H、(C₁-C₃)低级烷基、(C₁-C₃)低级烷氧基和卤原子；R⁶选自：(a)如下式的基团：低级烷基(C₃-C₈)直链或支链，低级烷基(C₃-C₈)直链或支链，低级烷基(C₃-C₈)直链或支链，低级链烯基(C₃-C₈)直链或支链，其中环烃基定义为：(C₃-C₆)环烷基、环己烯基或环戊烯基；Ra独立选自H、-CH₃或-C₂H₅、-(CH₂)_q-O-低级烷基(C₁-C₃)、-CH₂CH₂OH，q为1、2或3；Rb独立选自：H、-CH₃或-C₂H₅，(b)如下式的基团：其中J为Ra，支链或直链的低级烷基(C₃-C₈)、支链或直链的低级链烯基(C₃-C₈)、支链或直链的O-低级烷基(C₃-C₈)、支链或直链的O-低级链烯基(C₃-C₈)、四氢呋喃、四氢噻吩，和基团：或-CH₂-K′，其中K′为(C₁-C₃)低级烷氧基、卤原子、四氢呋喃、四氢噻吩或杂环基：其中D、E、F和G选自碳或氮，其中碳原子可以选择性地被卤原子、(C₁-C₃)低级烷基、羟基、-CO(C₁-C₃)低级烷基、CHO、(C₁-C₃)低级烷氧基、CO₂-(C₁-C₃)低级烷基取代，Ra和Rb定义如前；(c)如下式的基团：其中Rc选自卤素，(C₁-C₃)低级烷基，O-低级烷基(C₁-C₃)，OH，其中Ra和Rb定义如前；(d)如下式的基团：-M-Rd其中Rd为低级烷基(C₃-C₈)、低级链烯基(C₃-C₈)或-(CH₂)_p-环烷基(C₃-C₆)，其中M为O、S，NH、NCH₃，及基团-M-Rd，其中Rd选自基团：其中p为0-4，M为键或M选自O、S、NH、NCH₃；其中R¹、R²和Ra定义如前；其中Ar′选自：其中，W′选自：O、S、NH、N-低级烷基(C₁-C₃)NHCO-低级烷基(C₁-C₃)、NSO₂低级烷基(C₁-C₃)；R⁷选自：H、低级烷基(C₁-C₃)、卤原子、O-低级烷基(C₁-C₃)和CF₃；R⁸和R⁹分别选自：H、低级烷基(C₁-C₃)、S-低级烷基(C₁-C₃)、卤原子、-NH-低级烷基(C₁-C₃)、-N-[低级烷基(C₁-C₃)]₂、-OCF₃、-OH、-CN、-S-CF₃、-NO₂、-NH₂、O-低级烷基(C₁-C₃)、NHCO低级烷基(C₁-C₃)、-O-CO-低级烷基(C₁-C₃)、-N(Rb)(CH₂)_q-N(Rb)₂和CH₃；R¹⁰选自：H、卤原子和低级烷基(C₁-C₃)。