[发明专利]凹曲滑动件及其制造方法

权利要求书

1．一种凹曲滑动件，包括：

一个金属基体(1)，其具有预成型的基本上呈半圆形的滑动轴承的形状，凹曲内表面有一个弧顶区(5)；

至少一个中间层(2,3)，其涂覆在所述内表面上，具有基本上呈半圆形的形状；

一个覆层(4)，其由至少含有铝、镉、锡、锌、镍和铜中的一种金属的金属扩散合金构成，覆层(4)是采用电子束气相沉积方法涂覆到所述中间层(2,3)上的，以使其在沉积以后在所述基体(1)上呈基本上半圆形的形状，并且在以基体(1)的弧顶区(5)为基准的至少±70°的角度范围内该层厚度是均匀的，厚度偏差小于15％，所述覆层(4)中基本上不存在弯曲导致的应力，如果先在所述基体(1)上涂覆所述覆层(4)，然后再将所述基体(1)和所述覆层(4)一起弯曲成所述半圆形，则所述应力将存在于所述覆层(4)中。

2．如权利要求1所述的滑动件，其特征在于，所述中间层之一包括扩散阻挡层(3)。

3．如权利要求2所述的滑动件，其特征在于，扩散阻挡层(3)是采用电子束气相沉积涂覆的，并且在以基体(1)的弧顶区(5)为基准的至少±70°的角度范围内该层厚度偏差小于15％。

4．如权利要求1所述的滑动件，其特征在于，扩散合金含有15～35重量百分率的Sn及0.1～3重量百分率的Cu和Al。

5．如权利要求1所述的滑动件，其特征在于，扩散合金包括一个金属基体及选自氧化物、氮化物或碳化物的一种扩散物。

6．如权利要求1所述的滑动件，其特征在于扩散阻挡层(3)至少含有镍、镍/锡、镍/铜、镍/铬、钛或氮化钛之一。

7．一种制造滑动件的方法，包括步骤：

将一个金属基体(1)变形成基本上呈半圆形的形状，其凹曲内表面有一个弧顶区(5)；

将至少一个中间层(2,3)涂覆到所述基体(1)的内表面上，使中间层亦呈凹曲形；

通过电子束气相沉积方法在凹曲的中间层上涂覆一个由金属扩散合金构成的覆层(4)，覆层(4)具有基本上均匀的厚度，厚度偏差在以弧顶区(5)为基准的±70°的角度范围内小于15％，并且选择所述金属扩散合金，使其包括由铝、镉、锡、锌、镍和铜组成的组中的至少一种金属。

8．如权利要求7所述的方法，其特征在于，基体(1)有线性地相对的端部，所述沉积金属扩散合金的步骤包括沿所述端部之间的直线路径相对于一个蒸发器(8)移动基体(1)，以在凹曲的基体(1)上形成基本上均匀厚度的覆层材料。

9．如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述移动蒸发器(8)并改变其相对速度的步骤包括当基体(1)接近蒸发器(8)时减小其速度，当基体(1)远离蒸发器(8)时增大其速度。

10．如权利要求8所述的方法，其特征在于，形成所述覆层(4)的步骤包括以至少80nm/s的速度在弧顶区(5)附近凝聚扩散合金。

11．如权利要求8所述的方法，其特征在于，还包括在所述直线路径和基体(1)之间放置一个屏蔽物(10)的步骤。

12．如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述屏蔽物(10)包括一个面向蒸发器(8)的侧面，所述方法还包括将该侧面的温度维持在高于扩散合金的熔点。

13．如权利要求8所述的方法，其特征在于，扩散合金包括至少两个成分，所述形成覆层(4)的步骤包括从彼此靠近的各自的电子束蒸发器(8)蒸发所述两个成分。

14．如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述形成覆层(4)的步骤包括使用一个蒸发坩埚(8)蒸发扩散合金。

15．如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述形成覆层(4)的步骤包括在没有活性气体的真空中进行气相沉积。

16．如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述涂覆中间层(2,3)的步骤包括在没有活性气体的真空中进行气相沉积。

17．如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述形成覆层(4)的步骤包括通过供给活性气体和等离子体活化中的至少之一进行活性涂覆。