[发明专利]烯属不饱和单体的聚合物

权利要求书

1.一种聚合物，通过在包括如下物质作为活性组分的催化剂体系存在下聚合烯属不饱和单体获得，所述活性组分为：

a)元素周期表VIIIB族的金属盐，

b)选自质子酸和路易斯酸的一种或多种化合物，

c)如下通式(I)的敖合化合物

R¹R²E¹-Z-E²R³R⁴               (I)

其中取代基和系数具有如下含义：

E¹、E²各为元素周期表VA族的元素，

Z为包括元素周期表IVA、VA和VIA族元素的一个、两个、三个亚结构单元的桥结构单元，

R¹至R⁴为选自C₁-C₂₀-有机基团和C₃-C₃₀-有机硅基的取代基，其中基团可含有元素周期表IVA、VA、VIA和VIIA族的一个或多个元素。

2.如权利要求1的聚合物，其中Z为包括元素周期表IVA族的一个、两个或三个桥原子的桥结构单元。

3.如权利要求1或2的聚合物，其中Z为-CR⁵R⁶-或-SiR⁵R⁶-，其中R⁵和R⁶各自为氢或C₁-C₁₀-有机基团。

4.如权利要求1至3任何一项的聚合物，其中E¹和E²为磷。

5.如权利要求1至4任何一项的聚合物，其中R¹至R⁴各自为C₁-C₂₀-脂族或C₃-C₃₀-环脂族基团。

6.一种通过在包括如下物质作为活性组分的催化剂体系存在下聚合烯属不饱和单体而制备聚合物的方法，所述活性组分为：

a)元素周期表VIIIB族的金属盐，

b)选自质子酸和路易斯酸的一种或多种化合物，

c)如下通式(I)的敖合化合物

R¹R²E¹-Z-E²R³R⁴             (I)

其中取代基和系数具有如下含义：

E¹、E²各为元素周期表VA族的元素，

Z为包括元素周期表IVA、VA和VIA族元素的一个、两个、三个亚结构单元的桥结构单元，

R¹至R⁴为选自C₁-C₂₀-有机基团和C₃-C₃₀-有机硅基的取代基，其中基团可含有元素周期表IVA、VA、VIA和VII族的一个或多个元素。

7.如权利要求6的方法，其中使用的烯属不饱和化合物为烯烃、二烯烃或被官能团取代的烯烃，及乙烯基芳族化合物。

8.如权利要求6至7任何一项的方法，其中烯属不饱和化合物为C₂-C₂₀-链烯-1、内C₄-C₂₀-链烯、C₄-C₂₀-二烯烃或α，β-不饱和羧酸或其衍生物。

9.如权利要求1至5任何一项的聚合物用作薄膜、纤维或模制品的用途。

10.一种薄膜、纤维或模制品，包括权利要求1至5任何一项的聚合物。