[发明专利]用于半导体加工的超高纯化学品的现场混合系统及方法无效
申请号: | 96194564.8 | 申请日: | 1996-06-05 |
公开(公告)号: | CN1204408A | 公开(公告)日: | 1999-01-06 |
发明(设计)人: | J·G·霍夫曼;R·S·克拉克;A·H·小琼斯 | 申请(专利权)人: | 斯塔泰克文切斯公司 |
主分类号: | G05D11/13 | 分类号: | G05D11/13 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 孙爱 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 半导体 加工 超高 化学品 现场 混合 系统 方法 | ||
1.一种在半导体生产设备上实现超纯液体化学品现场精确混配的方法,该法包括如下步骤:
(a)自第一、第二和第三物源有控制地供应第一、第二和第三种超纯试剂组分;
(b)使第一与第二种超纯试剂组分相混,从而以精确选定的第1种配比,并在与一维测量传感器输出有关的控制关系下,形成第一种超纯混合物;
(c)使第三种超纯试剂组分与第一种超纯混合物相混,从而以精确选定的第2种配比,并在与一维测量传感器输出有关的控制关系下,形成第二种超纯混合物;及
(d)经输送所述水溶液的管路向半导体元件制造设备的用户端口供应第二种超纯混合物。
2.权利要求1的方法,其中,第一与第二种试剂组分均为酸。
3.权利要求1的方法,其中,两种混合过程均受闭环关系自动控制。
4.权利要求1的方法,其中,所述两种混合过程均受包括前馈在内的关系的自动控制。
5.权利要求1的方法,其中,至少一个所述传感器为声学速度传感器。
6.一种在半导体生产设备上实现超纯液体化学品现场精确混配的方法,该法包括如下步骤:
(a)自第一、第二和第三物源有控制地供应第一、第二和第三种超纯试剂组分;
(b)使第一与第二种超纯试剂组分相混,从而以精确选定的第1种配比,并在与第一传感器输出有关的控制关系下,形成第一种超纯混合物;
(c)使第三种超纯试剂组分与第一种超纯混合物相混,从而以精确选定的第2种配比,并在与所述的第二传感器输出有关的控制关系下,形成第二种超纯混合物,其间,第二传感器与第一传感器有别,但同样提供一维测量;及
(d)经输送所述水溶液的管路向半导体元件制造设备的用户端口供应第二种超纯混合物。
7.权利要求6的方法,其中,第一与第二种试剂组分均为酸。
8.权利要求6的方法,其中,所述两种混合过程均受闭环关系自动控制。
9.权利要求6的方法,其中,所述两种混合过程均受包括前馈在内的关系的自动控制。
10.权利要求6的方法,其中,至少一个所述传感器为声学速度传感器。
11.权利要求6的方法,其中,一种所述传感器为声学速度传感器,另一为电导测量传感器。
12.两种或两种以上流体的混合方法,该方法包括如下步骤:
(a)至少提供待混合的第一流体和第二流体;
(b)使所述各流体流过可实现流体相混的装置并因此形成一种相混的流体;
(c)向混合流体发出超声波;及
(d)测量通过所述混合流体的波速,如此获得混合流体的密度并间接测出混合流体中第一流体和第二流体的混合量之比。
13.权利要求12的方法,其中,第一流体为酸。
14.权利要求12的方法,其中,第二流体为酸。
15.权利要求12的方法,其中,第一流体及第二流体均为酸。
16.在半导体生产设备上实现向半导体制造过程提供超纯试剂的现场系统,该系统包括:
供应半导体加工过程所需第一、第二和第三种超纯试剂组分的第一、第二和第三物源;
接续所述物源之后、接收所述超纯试剂组分并生成混合物的混合装置;
用以监测由混合装置形成的试剂组分混合物的组成的传感器;
设置并用以调节所述超纯试剂组分于所述混合装置内流动的控制逻辑,该逻辑与传感器输出有关,相互关系是,先使第一与第二种试剂组分以精确选定的第一种配比相混,随后再使第二与第三种试剂组分以精确选定的第2种配比相混。
17.权利要求16的方法,其中,第一与第二种试剂组分均为酸。
18.权利要求16的方法,其中,控制逻辑包括前馈关系在内。
19.权利要求16的方法,其中,至少一个所述传感器为声学速度传感器。
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