[发明专利]为半导体制造提供超高纯氨的体系和方法

权利要求书

1.一种在半导体设备制造工厂中为半导体制造操作提供含氨的超高纯试剂的现场辅助体系，该体系包括：一个连接到液氨源并由它提供氨蒸气流的汽化源；所述的氨蒸气流被连接以通过离子纯化装置，它使含有高浓度氢氧化铵的高纯水循环流与所述的氨蒸气流接触；以及一个连接的制备装置，它接收来自所述的纯化装置的所述氨蒸气流，并使所述的氨蒸气与含水液体合并，制得含有氨的超纯含水溶液；以及一个管系，它将所述的含水溶液送到半导体设备制造工厂的各使用点。

2.根据权利要求1的体系，其中在所述的汽化源和所述的纯化装置之间还有颗粒过滤器。

3.根据权利要求1的体系，其中所述的液氨源由无水氨组成。

4.根据权利要求1的体系，其中所述的循环高纯水不含任何添加剂。

5.根据权利要求1的体系，其中所述的液氨源只有标准商业级纯度。

6.根据权利要求1的体系，其中所述的汽化器为一大贮罐。

7.根据权利要求1的体系，其中所述的汽化器在受控的温度下操作，它被连接以接收来自大贮罐的液氨。

8.一种在半导体设备制造工厂中为半导体制造操作提供含氨的超高纯试剂的现场辅助体系，该体系包括：一个被连接以接收液氨并由它提供氨蒸气流的汽化源；所述的氨蒸气流被连接以通过离子纯化装置，它使含有高浓度氢氧化铵的高纯水循环流与所述的氨蒸气流接触；以及一个连接的制备装置，它接收来自所述的纯化装置的所述氨蒸气流，并使所述的氨蒸气与含水液体合并，制得含氨的超纯含水溶液；从而所述的超纯含水溶液可在半导体设备制造工厂内使用，而不需要大量输送或使液体表面暴露到任何不受控制的气氛中。

9.根据权利要求8的体系，其中在所述的汽化源和所述的纯化装置之间设有颗粒过滤器。

10.根据权利要求8的体系，其中所述的液氨源由无水氨组成。

11.根据权利要求8的体系，其中所述的循环高纯水流不含任何添加剂。

12.根据权利要求8的体系，其中所述的液氨源只有标准商业级纯度。

13.根据权利要求8的体系，其中所述的汽化器为大贮罐。

14.根据权利要求8的体系，其中所述的汽化器在受控的温度下操作，并且被连接以接收来自大贮罐的液氨。

15.一种在半导体设备制造工厂中为在所述工厂的半导体制造操作提供超高纯氨的现场辅助体系，该体系包括：一个被连接以接收液氨并由它提供氨蒸气流的汽化源；所述的氨蒸气流被连接以通过离子纯化装置，它使含有高浓度氢氧化铵的高纯度水循环流与所述氨蒸气流接触，以及一个连接的干燥器装置，它接收来自所述纯化器的所述氨蒸气流，并由所述的干燥器干燥所述的蒸气；以及一个管系，它将所述的氨蒸气送到半导体设备制造工厂的各使用点。

16.根据权利要求15的体系，其中在所述的汽化源和所述的纯化装置之间设有颗粒过滤器。

17.根据权利要求15的体系，其中所述的液氨源由无水氨组成。

18.根据权利要求15的体系，其中所述的高纯水循环流不含任何添加剂。

19.根据权利要求15的体系，其中所述的液氨源只有标准商业级纯度。

20.根据权利要求15的体系，其中所述的汽化器为大贮罐。

21.根据权利要求15的体系，其中所述的汽化器在受控温度下操作，并被连接以接收来自大贮罐的液氨。

22.一种制备超高纯氨的体系，所述的体系包括：

(a)一个在所贮液体上有蒸气空间的液氨的储蓄器；

(b)从所述的蒸气空间抽出含氨气的蒸气的连接管线；

(c)从如此抽出的蒸气中除去颗粒的过滤膜；以及

(d)一涤气器和/或鼓泡塔，在其中通过所述过滤膜经过滤的蒸气与在去离子水中的氨水溶液接触，经如此洗涤的蒸气为纯化的氨气。

23.根据权利要求22的体系，其中还包括一蒸馏塔，用于蒸馏来自所述涤气器的蒸气。