[发明专利]光谱测量用的光学滤光片及其制造方法无效

专利信息
申请号: 96196114.7 申请日: 1996-06-04
公开(公告)号: CN1192808A 公开(公告)日: 1998-09-09
发明(设计)人: 小J·M·O·勒佩尔;M·K·迪尔布 申请(专利权)人: 马西默有限公司
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;G01J3/12
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 王勇,傅康
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光谱 测量 光学 滤光 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种制造旋转光学滤光片的方法,所述制造方法包括如下步骤:

提供一具有上表面和下表面的光学基片,以及

在所述上表面上涂覆以光学涂敷层,从而使上述涂敷层跨过上述基片的上述顶面沿第一方向具有变化的厚度,并使这些涂敷层的厚度在与上述第一方向基本垂直的第二方向上基本上不变。

2.如权利要求1所述的方法,进一步包括的步骤是在该基片中心产生安装孔。

3.如权利要求2所述的方法,进一步包括的步骤是沿上述基片的至少一部分涂覆以不透光的长条。

4.一种光学滤光片,包括:

一具有上表面和下表面的基片,以及

涂覆在上述基片的上述上表面上的许多光学涂敷层,从而使上述涂敷层在跨过上述上表面的第一方向上的厚度变化。上述涂敷层在与上述第一方向基本垂直的第二方向上,跨过上述上表面的厚度基本上保持不变。

5.一种光学滤光片,包括:

通常为圆形的基片,以及

涂覆在上述基片上的一些光学涂敷层,上述这些涂层提供一非成象的干涉仪,其中入射在上述涂层上约一半的光将在该基片的整个表面上通过上述涂层。

6.一种光学滤光片,包括:

一具有上表面和下表面的基片,以及

沿上述基片在第一方向上具有厚度变化的许多光学涂敷层;上述涂层为上述光学滤光片提供一些光学透射特性曲线,以提供一种跨过上述滤光片表面上全部位置可透过不止一种波长的光学滤光片。

7.一种光学系统,包括:

一光学滤光片,其将输入信号相乘,以致于输出信号包括在跨过滤光片在过半位置上不止一种波长的和;

一探测器,其接收入射在其上的并由上述光学滤光片滤过的光,上述探测器响应于被接收光(即在该探测器响应范围内所有入射光之和)提供一输出信号,以及

一与上述探测器耦合的信号处理器,该信号处理器响应上述输出信号以将总信号解码成一些组成部分,其中一部分代表入射在该探测器上的光的消除了该滤光片特性的光学特性。

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