[发明专利]带有输出辊的反向型照相凹版柔性接触涂覆系统

权利要求书

1.一种将一流体涂层材料涂覆到一基片材料(18)上的方法，所述基片具有一涂覆表面(28)和一与之相对的后表面(30)，所述方法包括如下步骤：

使基片的涂覆表面(28)与一具有流体涂层材料(10)的照相凹版辊子(14)接触，从而在一个自由跨度间将流体涂层材料涂布到基片(18)的涂覆表面上，同时，在基片(18)的后表面(30)上没有支承；以及

使基片(18)的后表面(30)与一输出辊(32)接触，接触点是在照相凹版辊子(14)下游不到1.0cm的基片上。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，它还包括如下步骤：

使输出辊(32)位于照相凹版辊子(14)的上方并与之分开而形成一间隙；以及

使基片(18)在照相凹版辊子(14)和输出辊(32)之间以一个向上的角度移动。

3.如权利要求1和2中任一项所述的方法，其特征在于，它还包括如下步骤中的至少一个：使照相凹版辊子(14)在与基片(18)相反的方向上转动，以便进行反向的照相凹版涂覆；无论是否与基片(18)接触，驱动输出辊(32)在与所述基片相同的方向上转动。

4.如权利要求1，2和3中任一项所述的方法，其特征在于，它还包括如下步骤：使基片(18)绕经一个处于照相凹版辊子(14)上游的惰辊(22)。

5.如权利要求1，2，3和4中任一项所述的方法，其特征在于，所述与涂覆表面(28)接触的步骤包括：使基片(18)的涂覆表面与照相凹版辊子(14)柔性接触，其中，与后表面(30)接触的步骤包括：使所述基片绕经输出辊(32)。

6.如权利要求1，2，3，4和5中任一项所述的方法，其特征在于，它还包括如下步骤：使基片(18)的与照相凹版辊子(14)接触的那一部分以及基片(18)的处在照相凹版辊子上游的那一部分之间的张力隔绝。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，它还包括如下步骤：使基片(18)绕过一个处于照相凹版辊子(14)上游的惰辊(22)，其中，所述隔绝张力的步骤包括：使所述基片在所述惰辊的上游以及在所述照相凹版辊子的上游与所述输出辊(32)压合。

8.一种将一流体涂层材料(10)涂覆到一基片材料(18)上的装置，所述基片具有一涂覆表面(28)和一与之相对的后表面(30)，所述装置包括：

一照相凹版辊子(14)，它使基片(18)的涂覆表面(28)与流体涂层材料(10)的接触，从而在一个自由跨度间将流体涂层材料涂布到基片的涂覆表面上，同时，在基片(18)的后表面(30)上没有支承；以及

用以使基片(18)的后表面(30)在照相凹版辊子(14)下游不到1.0cm的基片上的某一点接触的装置，该装置包括一输出辊(32)。

9.如权利要求8所述的装置，其特征在于，它还包括：至少一个使所述照相凹版辊子(14)在与基片(18)相反的方向上转动的装置，以便进行反向的照相凹版涂覆；以及无论是否与基片(18)接触，都能在与所述基片相同的方向上带动所述输出辊(32)旋转的装置。

10.如权利要求8和9中任一项所述的装置，其特征在于，它还包括一惰辊(22)，所述基片(18)在所述照相凹版辊子(14)的上游绕经该惰辊。

11.如权利要求8，9和10之一所述的装置，其特征在于，它还包括：用来使基片(18)的与照相凹版辊子(14)接触的那一部分以及基片(18)的处在照相凹版辊子上游的那一部分之间的张力隔绝的装置。

12.如权利要求11所述的装置，其特征在于，它还包括一惰辊(22)，所述基片(18)在所述照相凹版辊子(14)的上游绕过该惰辊，其中，所述张力隔绝装置包括：一位于所述惰辊上游、用来使所述基片与所述输出辊压合的压合辊34。

13.如权利要求8，9，10和11之一所述的装置，其特征在于，所述输出辊(32)是一钢辊。