[发明专利]羟基砜及相关化合物的合成

权利要求书

1.结构式IV化合物的制备方法：IV

其中R是氢，C_1-4烷基，或C_1-4烷氧基-C_1-4烷基，包括将酸酐加入到含有溶剂和化学式I化合物的第一溶液中：I式中R的定义与上面相同，反应温度维持在约-5℃-50℃，产生含有结构式II化合物的第二溶液：II其中R定义同上，向第二溶液中加氧化剂，温度保持在约15℃到80℃，得到化合物III，III其中R定义同上，将化合物III还原，得到化合物IV，并分离出化合物IV。

2.权利要求1的方法，其中酸酐任选地存在有酸。

3.权利要求1的方法，其中过量的和未被反应消耗的酸酐，在加氧化剂之前，加入相当于原始酸酐量的约0.2-2当量的水，将其水解掉。

4.权利要求1的方法，其中R是甲基，酸酐是属于下列一组中的的一种：三氟醋酐、乙酐、或三氯醋酐；溶液属于下列溶剂中的一种：甲苯、苯、环己烷、庚烷或二甲苯；氧化剂属于下列一组氧化剂中的一种：过氧化氢、叔-丁基过氧氢，高碘酸盐，高氯酸盐，或者化学氧化。

5.权利要求4的方法，其中酐是三氟醋酐、溶剂是甲苯，氧化剂是过氧化氢。

6.权利要求1的方法，其中，加入酸酐时，温度保持在约20-40℃，氧化温度是20到约60℃。

7.权利要求2的方法，其中酸属于羧酸和无机酸。

8.权利要求7的方法，其中羧酸和无机酸属下列一组酸的一种：磷酸、多磷酸、正磷酸和五氧化二磷。

9.权利要求5的方法，其中至少加入2摩尔当量氧化剂。

10.结构式IV化合物的制备方法，式中R是甲基：IV

方法包括将三氟醋酸酐加入到含有甲苯和化学式I化合物的第一溶液中：I式I中R定义与上文相同；维持温度约为20-40℃，得到含有结构式II化合物的第二溶液：II式II中的R定义与上文相同；将过氧化氢加入到第二溶液中，同时保持温度约20℃-60℃，得到化合物III，III式III中R定义与上文相同，还原化合物III产生化合物IV，并分离化合物IV。

11.权利要求10的方法，其中当加入三氟醋酐时，维持温度在约25-35℃。