[发明专利]回扫变压器的弹性线圈绕组结构及其制造工艺无效

专利信息
申请号: 96198601.8 申请日: 1996-11-30
公开(公告)号: CN1202977A 公开(公告)日: 1998-12-23
发明(设计)人: 崔昌求;南河殷 申请(专利权)人: 大宇电子株式会社
主分类号: H01F38/42 分类号: H01F38/42;H01F41/04
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 余朦
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 变压器 弹性 线圈 绕组 结构 及其 制造 工艺
【权利要求书】:

1.一种用于制造回扫变压器的弹性线圈绕组结构的工艺,包括步骤:

a)在一个薄绝缘片上形成一个薄导电层,以获得一个弹性叠层片部分;

b)从弹性叠层片部分部分地除去导电层,以获得包括第一导线结构的第一导线结构片部分,所述第一导线图形具有多个以一预定角度倾斜的第一平行导线;

c)从弹性叠层片部分部分地除去导电层,以获得包括第二导线结构的第二导线结构片部分,所述第二导线结构具有多个以与第一导线结构中相同的角度倾斜的第二平行导线;

d)将第一导线的上部和下部与第二导线的下部和上部连接起来,以获得一个包括一个线圈式电路结构的线圈结构叠层片部分,其中所述线圈式电路结构由第一导线结构和第二导线结构形成;以及

e)将一个可磁化磁心插入线圈式结构叠层片部分。

2.如权利要求1所述的工艺,其特征在于:绝缘片的厚度为小于35微米左右。

3.如权利要求1所述的工艺,其特征在于:绝缘片是由一种从包括聚酰亚胺和聚酯的一组材料中选择的材料制成的。

4.如权利要求1所述的工艺,其特征在于:导电层的厚度为从几个微米到大约100微米,其最佳厚度是从大约25微米到大约75微米。

5.如权利要求1所述的工艺,其特征在于:导电层是由一种从包括铜和铝的一组材料中选择的材料制成的。

6.如权利要求1所述的工艺,其特征在于:形成步骤a)包括将一种粘合剂施加到绝缘片的表面,然后将一个铜薄膜粘到粘合剂上。

7.如权利要求1所述的工艺,其特征在于:形成步骤a)包括将一种胶粘剂施加到绝缘片的表面,然后将一个铝薄膜粘到胶粘剂上。

8.如权利要求1所述的工艺,其特征在于:形成步骤a)包括在绝缘片上形成一个导电材料的离子层,然后在所述离子层上形成导电层。

9.如权利要求8所述的工艺,其特征在于:所述离子层是由RF溅射工艺形成的。

10.如权利要求8所述的工艺,其特征在于:所述离子层的导电材料是从包括铬和镍的一组材料中选择出来的。

11.如权利要求1所述的工艺,其特征在于:所述第一和第二导线结构分别包括一个导线端,并且所述导线端是用右端导线或左端导线整体地形成的。

12.如权利要求1所述的工艺,其特征在于:所述第一和第二导线结构片部分包括一个对准标记,用于在连接步骤d)中正确地安排第一和第二平行导线的上部和下部。

13.如权利要求12所述的工艺,其特征在于:所述导线结构片部分在其纵向的右端或左端边缘、或两端边缘具有一对孔,所述孔被用作对准标记。

14.如权利要求12所述的工艺,其特征在于:所述导线结构片部分在横向的上端或下端边缘具有多个孔,所述孔被用作对准标记。

15.如权利要求1所述的工艺,其特征在于:连接步骤d)包括步骤:除去绝缘片上相应于所有第一导线的上部和下部的部分,从而在所有第一导线上形成外露的上部和下部,使第二导线除了其上部和下部外的中间部分绝缘,折叠第一和第二导线结构片部分,使得第一导线外露的上部和下部分别面对着第二导线的下部和上部,以及将第一导线的外露部分与第二导线的上部和下部彼此电连接,由此第一和第二导线结构形成了线圈式电路结构。

16.如权利要求1所述的工艺,其特征在于:连接步骤d)包括步骤:除去绝缘片上相应于所有第一和第二导线的上部和下部的部分,从而在所有第一和第二导线上形成外露的上部和下部,折叠第一和第二导线结构片部分,使得绝缘片彼此面对,以及将第一和第二导线的外露部分彼此电连接,由此第一和第二导线结构形成了线圈式电路结构。

17.如权利要求16所述的工艺,其特征在于:所述除去绝缘片的一部分的步骤可以通过纵向地除去绝缘片上穿过导线的上部和下部的部分,从而形成外露部分来实现。

18.如权利要求17所述的工艺,其特征在于:所述电连接步骤包括步骤:将一种焊料加到第一和第二导线的外露部分上,并进行热压以焊住导线的外露部分。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大宇电子株式会社,未经大宇电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/96198601.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top