[发明专利]宝石用激光划痕系统及划痕鉴别方法无效
申请号: | 96199289.1 | 申请日: | 1996-11-14 |
公开(公告)号: | CN1205663A | 公开(公告)日: | 1999-01-20 |
发明(设计)人: | 乔治·R·卡普兰;阿维格多·沙哈勒;奥迪德·安纳;利奥尼德·居尔维什 | 申请(专利权)人: | 拉扎尔·卡普兰国际公司 |
主分类号: | B23K26/04 | 分类号: | B23K26/04;G06K1/02 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 刘兴鹏 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 宝石 激光 划痕 系统 鉴别方法 | ||
1、一种激光能量微刻系统,该系统包括:
一个脉冲激光能源;
一个工件安装系统,它使光线得以到达被安装的工件;
一个光学系统,用于将来自激光能源的激光能量聚焦在工件上;
导向装置,用于将所述已聚焦的激光能量引导到工件要求的部分上,它具有一个控制输入器;
一个成像系统,用于从若干有利点观察工件;
一个接收划痕指令的输入器;
一个处理器,用于根据所述划痕指令和所述成像系统控制所述导向装置,以便在所述指令和预定程序的基础上,有选择地产生划痕;和
一个存储系统,用于存储与若干工件的图像有关的信息。
2、如权利要求1的激光能量微刻系统,其特征在于,所述脉冲激光能源包括一个半导体二极管受激Q调制钕激光器。
3、如权利要求2的激光能量微刻系统,其特征在于,所述激光器是Nd:YLY激光器,它具有内部谐波转换器,其输出为530纳米。
4、如权利要求1的激光能量微刻系统,该系统还包括一个所述脉冲激光能源使用的电源。
5、如权利要求1的激光能量微刻系统,该系统还包括一个底盘,用于刚性地支承所述脉冲激光能源、所述工件安装系统、所述光学系统和所述导向装置。
6、如权利要求1的激光能量微刻系统,该系统还包括一个所述脉冲激光能源使用的电源和一个底盘,该底盘用于刚性地支承所述脉冲激光能源、所述工件安装系统、所述光学系统、所述导向装置和所述电源。
7、如权利要求1的激光能量微刻系统,该系统还包括一个底盘,用于刚性地支承所述脉冲激光能源、所述工件安装系统、所述光学系统和所述导向装置,所述导向装置相对所述底盘改变工件的位置。
8、如权利要求1的激光能量微刻系统,其特征在于,所述工件安装系统包括一件固定构件、一件可装卸的构件和一个安装夹具,该夹具用于将工件固定至所述可装卸的构件上。
9、如权利要求1的激光能量微刻系统,其特征在于,工件是一块宝石。
10、如权利要求1的激光能量微刻系统,其特征在于,工件是一块纵切割的钻石。
11、如权利要求1的激光能量微刻系统,其特征在于,所述光学系统包括一个光束扩展器、一个分色镜和一个聚焦透镜。
12、如权利要求1的激光能量微刻系统,其特征在于,所述导向装置包括一个可移动工作台,该工作台至少具有三个轴向的运动。
13、如权利要求1的激光能量微刻系统,其特征在于,所述导向装置受到控制以便产生一组受所述脉冲激光能源辐射的、部分重叠的区域。
14、如权利要求1的激光能量微刻系统,其特征在于,所述导向装置受到控制以便产生一组由所述脉冲激光能源辐射的部分重叠区域形成的连续图形。
15、如权利要求1的激光能量微刻系统,其特征在于,所述导向装置在所述脉冲激光能源发生激光脉冲期间,受控地处于静止位置。
16、如权利要求1的激光能量微刻系统,其特征在于,所述成像系统包括一条光路,该光路包含至少部分工件的一部分,并至少和所述脉冲激光能源入射在工件上的激光脉冲的部分轴线同轴。
17、如权利要求1的激光能量微刻系统,其特征在于,所述成像系统包括一条光路,该光路至少包含工件的一部分,并至少和所述脉冲激光能源入射在工件上的激光脉冲的部分轴线垂直。
18、如权利要求1的激光能量微刻系统,其特征在于,所述成像系统包括一条第一光路,该第一光路至少包含工件的一部分,并至少和所述脉冲激光能源入射在工件上的激光脉冲的部分轴线同轴;和一条第二光路,该第二光路包含所述工件的所述部分,并与所述激光脉冲的所述轴线垂直。
19、如权利要求1的激光能量微刻系统,其特征在于,所述成像系统包括一个电子成像装置,用于将图像信息传输给所述处理器,所述处理器进一步根据所述图像信息控制所述导向装置。
20、如权利要求1的激光能量微刻系统,其特征在于,所述成像系统将工件的一部分成像,所述脉冲激光能源的输出通过分色镜入射在该部分工件上。
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