[实用新型]抗磨活塞环无效
申请号: | 96215768.6 | 申请日: | 1996-07-24 |
公开(公告)号: | CN2295852Y | 公开(公告)日: | 1998-10-28 |
发明(设计)人: | 金之垣;孔宪清;王辉;马绍川;邹彦文 | 申请(专利权)人: | 金之垣;孔宪清;王辉 |
主分类号: | F02F5/00 | 分类号: | F02F5/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100084 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 活塞环 | ||
1、一种抗磨活塞环,其本体(1)表面有铬层、钼层、氮化层、磷化层或经其它物理、化学方法获得的表面基体层(2),其特征在于,在所说表面基体层(2)上镀有陶瓷薄膜层(3)。
2、如权利要求1所述的抗磨活塞环,其特征在于,所说的陶瓷薄膜层(3)镀在表面基体层(2)的外圆面上。
3、如权利要求1所述的抗磨活塞环,其特征在于,所说的陶瓷薄膜层(3)镀在表面基体层(2)的外圆面上和本体(1)两端面上的与外圆面相邻接的部分。
4、一种抗磨活塞环,其特征在于所说陶瓷薄膜层(3)直接镀在本体(1)上。
5、如权利要求4所述的抗磨活塞环,其特征在于,所说的陶瓷薄膜层(3)直接镀在本体(1)的外圆面上
6、如权利要求4所述的抗磨活塞环,其特征在于,所说的陶瓷薄膜层(3)直接镀在本体(1)的外圆面上和本体(1)两端面上的与外圆面相邻接的部分。
7、如权利要求1至6中任意一项所述的抗磨活塞环,其特征在于,所说的陶瓷薄膜层(3)是由钛、铝、锆、铪等的氮化物、碳化物、碳氮化合物或氧化物的陶瓷所构成的单层或多层复合层。
8、如权利要求1至6中任意一项所述的抗磨活塞环,其特征在于所说陶瓷薄膜层(3)的厚度为0.5-2.5μm。
9、如权利要求7所述的抗磨活塞环,其特征在于,所说陶瓷薄膜层(3)的厚度为0.5-2.5μm。
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