[发明专利]集成电路的布图的制作方法无效
| 申请号： | 97100395.5 | 申请日： | 1997-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN1059278C | 公开（公告）日： | 2000-12-06 |
| 发明（设计）人： | 吕炳尧 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 徐娴 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 集成电路 制作方法 | ||
【权利要求书】：
1、一种集成电路的布图的制作方法，其特征在于，包括下列步骤：
(a)在透明衬底上形成含有不透明区域的集成电路布图以及对准记号的光掩模；
(b)在所述光掩模的有效曝光区域内，放置一组X及Y方向对准记号及游标尺图形在电路布图区域一定距离外的上下左右四个角落中的任何一个角落。
2、根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述透明衬底材料为石英、玻璃中之一。
3、根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述不透明区域的材料为铬、感光乳剂中之一。
4、一种集成电路的布图的制作方法，包括下列步骤：
(a)在透明衬底上形成含有不透明区域的集成电路布图以及对准记号的光掩模；
(b)在所述光掩模的有效曝光区域内，放置一组X及Y方向对准记号及游标尺图形在电路场区切割线上的上下左右四个角落中的任一个角落，并记录其X、Y座标值。
(c)制作一般产品的布图，将对准记号及游标尺图形亦放置在电路场区切割线上与所述光掩模相同的一个角落，并记录其X，Y座标值。
(d)将所述电路场区左右移动，使得产品对准记号与所述光掩模对准记号的X、Y座标均相同。
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