[发明专利]等离子体处理方法和装置

权利要求书

1.一种等离子体处理方法，其特征在于，把以空腔谐振器的中心轴附近为中心具有角度成分的微波电磁场，从上述空腔谐振器通过微波导入窗辐射到处理室内，在被处理基板对面的区域内产生圆环状等离子体，利用用该圆环状等离子体来对上述被处理基板进行等离子体处理。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理方法，其特征在于，上述微波电磁场是TE_on方式和TM_om方式(m、n是正整数)相混合的微波电磁场。

3.如权利要求1所述的等离子体处理方法，其特征在于上述微波电磁场是TE_omn方式(m、n为正整数)的微波电磁场.

4.一种等离子体处理方法，其特征在于，把TM₀₁方式的微波送入空腔谐振器内，使TM_omn方式(m、n为正整数)的微波在空腔谐振器内谐振，把TE_on方式TM_om(m、n为正整数)相混合的微波从缝隙天线上放射到处理室内，该缝隙天线按一定的角度布置成圆环状，该角度既不平行于也不垂直于空腔谐振器底部所流过的表面电流的方向，利用这样放射出的微波来生成等离子体，用于对试样处理。

5.一种等离子体处理方法，其特征在于，在空腔谐振器底部的缝隙天线和微波导入窗之间，把微波电磁场限定为TE_omn方式(m、n为正整数)，该限定方式的微波通过上述微波导入窗放射到处理室内，在被处理基板对面的区域内产生圆环状等离子体，利用该圆环状等离子体对上述被处理基板进行等离子体处理。

6.一种等离子体处理装置，包括：

处理室，它连接真空排气装置，可以使处理室内部减小压力；

供气装置，用于向上述处理室内供气；以及

等离子体发生装置，它利用从空腔谐振器底部上所安装的缝隙天线上放射出的微波，在上述处理室内部发生等离子体，

其特征在于，上述缝隙天线按照一定的角度来设置，该角度既不平行于也不垂直于上述缝隙天线配置面上所流过的表面电流。

7.如权利要求6所述的等离子体处理装置，其特征在于，在上述缝隙天线的微波放射侧设置了石英窗，该石英窗的板厚为微波的管内波长的四分之一以上。

8.一种等离子体处理装置，包括：

处理室，它连接真空排气装置，可以使处理室内部降低压力；

供气装置，用于向上述处理室内供应气体；以及

等离子体发生装置，它利用微波在处理室内部发生等离子体，

其特征在于，上述等离子体发生装置能发生TE_om方式和TM_on方式(m、n为正整数)相混合的微波。

9.一种等离子体处理装置，其特征在于包括：

微波源；

微波波导管，用于传输从该微波源中放射出的微波；

空腔谐振器，它使该微波波导管所传输的微波进行谐振；

处理室，其内部设置试样台用于放置被处理基板；以及

微波电磁场放射装置，用于把微波电磁场从上述空腔谐振器通过微波导入窗放射到上述处理室内，该微波电磁场以上述空腔谐振器的中心轴附近为中心形成一定角度成分，在上述被处理基板对面的区域内发生圆环状等离子体。

10.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

微波源；

微波波导管，用于传输从该微波源放射出的微波；

同轴线路部，用于传输由该微波波导管传送来的微波；

空腔谐振器，它以同轴状态连接在上述同轴线路部上，用于使来自同轴线路部的微波进行谐振；

处理室，其内部设置了试样台用于放置被处理基板；以及

微波电磁场放射装置，用于使下述微波电磁场从上述空腔谐振器通过微波导入窗放射到上述处理室内，该微波电磁场以上述空腔谐振器的中心轴附近为中心形成一定的角度成分，在上述处理室内的上述被处理基板对面的区域内发生圆环状等离子体。

11.如权利要求10所述的等离子体处理装置，其特征在于，上述空腔谐振器按TM方式进行谐振。

12.如权利要求10所述的等离子体处理装置，其特征在于，上述微波电磁场放射装置是由缝隙天线构成的。