[发明专利]稳定剂组合物

权利要求书

1.用于防止有机材料受到光、氧和/或热的破坏作用而进行稳定化处理的稳定剂混合物，其中含有至少一种式(1)所示化合物和至少一种式(2)所示化合物式中R₁与R₁′彼此独立地分别为C_1-6烷基、未被取代或被1～3个甲基取代的环己基、烯丙基、异丙烯基、未被取代或被C_1-4烷基、C_1-4烷氧基或卤素取代的芳基、苄基或α-甲基苄基，R₂、R₂′、R₃、R₃′、R₄和R₅彼此独立地分别为氢、C_1-6烷基或被一个或多个基团-O-阻断并且被羟基或基团-OR₆取代的直链或支链C_4-28烷基，其中R₆为C_1-4烷基、苯基、邻-、间-或对甲苯基或苄基，或者它们是未被取代或被C_1-4烷基取代的苯甲酰基或苯磺酰基。

2.按照权利要求1的稳定剂混合物，其中R₁与R₁′相同并且分别为C_1-4烷基、环己基、烯丙基、苯基或苄基。

3.按照权利要求1的稳定剂混合物，其中R₁与R₁′相同并且分别为C_1-4烷基。

4.根据权利要求1的稳定剂混合物，其中R₂、R₂′、R₃、R₃′、R₄和R₅彼此独立地分别为氢、C_1-4烷基、其中R₇为甲基或氢以及n为整数1-9的式-(CH₂CHR₇-O)_n-H所示基团，或苯甲酰基。

5.根据权利要求1的稳定剂混合物，其中R₂、R₂′和R₅彼此独立地分别为C_1-4烷基，其中R₇为甲基或氢以及n为整数1-9的式-(CH₂CHR₇-O)_n-H所示基团，或苯甲酰基，R₃为氢、C_1-4烷基、其中R₇为甲基或氢以及n为整数1-9的式-(CH₂CHR₇-O)_n-H所示基团，或苯甲酰基，R₃′与R₄分别为氢。

6.根据权利要求1的稳定剂混合物，其中R₂、R₂′与R₅相同并且分别为C_1-4烷基，R₃为氢或C_1-4烷基，R₃′与R₄分别为氢。

7.根据权利要求1的稳定剂混合物，其中主要含有其中R₁与R₂分别如权利要求1限定的下式所示化合物：

8.根据权利要求7的稳定剂混合物，其中含有50-95％(重)式(1a)与(1b)所示化合物和50-5％(重)式(2a)所示化合物。

9.根据权利要求7的稳定剂混合物，其中含有50-80％(重)式(1a)与(1b)所示化合物和50-20％(重)式(2a)所示化合物，式中R₁为C_1-4烷基、环己基、烯丙基、苯基或苄基，R₂为C_1-4烷基、其中R₄为甲基或氢以及n为整数1-9的式-(CH₂CHR₄-O)_n-H所示基团，或苯甲酰基。