[发明专利]光学玻璃平面超精密研抛方法及设备

权利要求书

1、一种光学玻璃平面超精密研抛方法，是由以下步骤组成：

(1)、在精密研抛机上由纯度为99.9％金属锡制作成圆环形研磨盘，研磨盘圆环宽度大于被加工试件直径，固定试件的夹具通过万向联轴节与转轴连接；

(2).用双面胶带将试件粘贴于夹具上；

(3).使用安装在研磨机上的切削装置，车削平研磨盘，再按被加工试件直径的80～95％为宽度将研磨盘切削为凸起圆环，形成研磨盘的作业面；

(4).注研磨液，以淹没研磨盘表面为限。研磨液是一种公称直径为70A的SiO₂超级微粉末与纯净水的悬浮液。

(5).研磨盘和试件以其各自的轴为中心转动，试件只进行回转而无一般光学平面研磨中的摇摆运动，调整研磨盘转速在60rpm以上。

(6).连续研磨试件，直到试件平面度达到标称精度为止。

2、一种专用于权利要求1所述方法的研磨机研磨盘，是一个固定于研磨机转台上的周边带有外沿的环形圆盘，其特征在于，研磨盘作业面是一层纯度为99％以上的金属锡，研磨盘的圆环宽度大于被加工试件直径，研磨盘与试件研磨作业面是一略有凸起高度的环形带，环形带的宽为试件直径的85～94％。

3、如权利要求2所述的研磨机研磨盘，其特征在于环形带作业面上，均布有多个等间隔环形槽。