[发明专利]净化含杂质液体的装置

说明书

本发明与含固体和/或液体杂质的液体的净化装置有关。

可溶的冷却和/或清洁水用在机加工位。就会产生像混有油的液体从前一个装有一工件的工位送到一瞬间加工位的问题或在加工时，瞬间工位所产生的切屑与液体混在一起的问题，这些外来物质必须除去而且可用各种装置来净化液体。

更具体地说，日本专利公报平成-4-122463公开了一种用来净化含杂质液体的旋流分离器，该旋流器能使液体内所含的切屑下沉同时使净化液体上浮。

然而，常规的旋流分离器有下列问题：

第一，在液体所含杂质中含油的情况下，油就不能从液体内除去；

第二，为了从液体内去除油，除了旋流分离器外还需设置一个油分离器，结果构成的装置体积过大

第三，在旋流型分离器中，从液体中分离和去除杂质的效率并不高，为了从液体中更完全地去除杂质，最好用一种过滤型分离器，但是过滤型分离器需要周期性更换滤芯。

本发明的目的是通过一个单个装置，提供一个能去除切屑和油的液体净化装置。

本发明的净化含杂质液体的装置包括由一个底壁、顶壁、垂直侧壁组成的竖直空心壳体，在壳体内，设置多个与水平呈倾斜的板以便相至隔开，斜板包括至少一个从壳体侧壁下倾延伸的第一板和至少一个从壳体侧壁上斜延伸的第二板。至少一个第一板的各板有一个限定第一通道的上端以使轻于液体的杂质经此通道上端上浮；至少一个第二板的各板有一个限定第二通道的下端以便使重于液体的杂质经此通道下端下沉。液体净化装置还包括一个穿过开在壳体上的供应孔把含杂质的液体送到壳体内的液体供应装置，一个在第二通道上方，开在壳体顶壁上的净化液体出口孔，一个在第二通道下方，开在壳体底壁上的第一排液孔和一个在第一通道上方，开在壳体顶壁上的第二排液孔。

在本发明的液体净化装置中，当液体在斜板之间流动时，比液体轻的杂质穿过第一通道，上升到壳体的顶壁并通过第二排液孔排出，而同时比液体重的杂质穿过第二通道，下沉到壳体底壁并通过第一排液孔排出，净化液体通过净化液体出口孔而流出。在此实例中，比液体轻的杂质和比液体重的杂质是用同一个液体净化装置从液体中加以去除。

结合附图并从下文中对本发明的最佳实施例进行详细叙述就会对本发明的上述的发明目的，特点和优点更容易理解并且变得更明显。其中：

图1是一个本发明第一实施例的净化装置的剖视图。

如图1所示，一个净化含杂质液体的装置包括一个竖直的中空壳体或容器1，图1所示的壳体为柱形，但是该壳体也可以矩形或其它形状，壳体9有一个上壁1a，一个底壁1b以及由上壁1a和底壁1b之间的柱体所限定的垂直侧壁1c。

在壳体1内安置有多个与水平呈倾斜且相互隔开的斜板2，斜板2包括(a)至少一个从壳体1的侧壁1c下倾伸的第一板2ab)至少一个设置于两相邻第一板之间并向壳体1的侧壁1c上斜延伸的第二板2b并且在第二板2b上端与壳体1的侧壁1c之间留有间隙，通过此结构，斜板2就限定了一个在壳体1内曲折拐弯的通路3。

曲折通路3包括至少一个倾斜上升通路部分3a降至少一个倾斜下降通路3b，上升通路部分3a和下降通路部分3b通过一个靠近第二板2b的上端处的第一通道换向部分3c相连，还通过一个靠近第一板2a的下端外的第二通道换向部分3d而相连。

用来使比液体轻的杂质通过其上浮的第一通路4开在第一换向部分3c上方处的至少一个第一板2a上。以比液体轻的杂质是油为实例，第一通路4就是油通路。第一通路4可以是(a)当第一板2a用点焊固定到壳体1的侧壁1c上时，在侧壁1c和第一板2a的上端之间形成的约1-3毫米大小的间隙(b)多个开在第一板2a上的小孔。

用来使比液体重的杂质通过其重力下沉的第二通路5开在第二换向部分3d下方处的至少一个第二板2b上，以比液体重的杂质是切屑为实例，第二通路5就是切屑通路。

第二通路5设有一个包括一个阀6的第二通路的开关装置，该第二通路开关装置包括一个与阀6相连的杆7和垂直方向驱动杆7的驱动装置8，驱动装置8可以是一个气缸或一个电动机，通过驱动阀6和杆7使第二通路5开启或关闭。

液体净化装置还包括一个向壳体1内输送含杂质液体用在机加工中的清洗液或冷却液的液体供应装置，液体供应装置包括一个开在壳体1上的送液孔9，穿过送液孔9，含杂质液体输送到壳体1内，送液孔9位于曲折通路3的上游处。杂质至少包括固体杂质和液体杂质中之一种，固体杂质可包括切屑19而液体杂质可包括油18。