[发明专利]瞄准筒反应器喷嘴的方法和装置

权利要求书

1.一种用来发放反应气体的射流组合件，使气体从供应源发放到筒反应器的反应室内，以便在化学汽相淀积的过程中用来将材料淀积在反应室内放置的半导体晶片上，该射流组合件包括：

一个喷嘴，该喷嘴适宜安装在一个与反应气体供应源有管路连通的筒反应器上，以便有选择地从供应源将反应气体的射流发放到反应室，从而完成在反应室内的化学汽相淀积过程，该喷嘴可相对于筒反应器绕枢轴旋转，以便有选择地改变反应气体射流进入反应室的方向；和

一个定位装置，该装置被连接到喷嘴上以便用来使喷嘴相对于筒反应器绕枢轴旋转，从而改变气体射流进入反应室的方向，定位装置构造成使喷嘴相对于筒反应器的位置能够定量地测出，从而能够重现地瞄准喷嘴，以便选择反应气体射流进入反应室的方向。

2.如权利要求1所述射流组合件，其特征为，定位装置构造成能提供喷嘴相对于筒反应器的位置的有关数值。

3.如权利要求1所述的射流组合件，其特征为还包括一个连接到喷嘴和定位装置上的连接器，以便用来使喷嘴根据定位装置的运动而绕枢轴旋转。

4.如权利要求3所述的射流组合件，其特征为，定位装置具有一个多轴台座，该台座适宜使喷嘴相对于筒反应器独立地环绕第一和第二旋转轴线旋转，第二轴线一般垂直于第一轴线。

5.如权利要求4所述的射流组合件，其特征为，台座具有第一和第二两个滑动单元，第一单元连接到连接器上，第二单元连接到筒反应器上，第一单元使连接器相对于筒反应器在第一平面上移动，从而使喷嘴环绕第二轴线旋转，第二单元使连接器相对于筒反应器在第二平面上移动，从而使喷嘴环绕第一轴线旋转。

6.如权利要求5所述的射流组合件，其特征为，台座具有至少一个测微计，以便用来确定连接器相对于筒反应器的位置，从而可重现地确定反应气体射流进入反应室的方向。

7.一种用来发放反应气体的射流组合件，使气体从供应源发放到筒反应器的反应室内，以便在化学汽相淀积的过程中用来将材料淀积在反应室内放置的半导体晶片上，该射流组合件包括：

一个喷嘴，该喷嘴适宜安装在一个与反应气体供应源有管路连通的筒反应器上，以便有选择地从供应源将反应气体的射流发放到反应室，从而完成在反应室内的化学汽相淀积过程，该喷嘴可相对于筒反应器环绕第一和第二旋转轴线旋转，第二轴线一般垂直于第一轴线，以便有选择地改变反应气体射流进入反应室的方向；

一个连接器，它连接到喷嘴上并从反应室向外伸出，以便用来使喷嘴根据连接器的运动相对于筒反应器绕枢轴旋转；和

一个多轴台座，它设在反应室的外侧，此时喷嘴装在筒反应器上，该台座具有第一和第二两个滑动单元，第一单元连接到连接器上，第二单元连接到筒反应器上，第一单元使连接器相对于筒反应器在第一平面上移动，从而使喷嘴环绕第二轴线旋转，第二单元使连接器相对于筒反应器在第二平面上移动，从而使喷嘴环绕第一轴线旋转。

8.如权利要求7所述的射流组合件，其特征为，台座具有至少一个测微计，以便用来确定连接器相对于筒反应器的位置，从而可重现地确定反应气体射流进入反应室的方向。

9.一种优化瞄准筒反应器上喷嘴的方法，该筒反应器用于以化学汽相淀积法将材料淀积在反应器内放置的一个半导体晶片上，该方法包括下列步骤：

将喷嘴瞄准筒反应器内的第一目标点；

使喷嘴绕枢轴旋转一个预定的角度而指向与第一目标点间隔开的第二目标点；及

测量第一和第二两个目标点之间的距离，从而建立一个与喷嘴在现有的和希望的反应气体发放点之间的移动距离有关的校正因数。

10.如权利要求9所述的方法，其特征为还包括下列步骤：

将筒反应器运转经过一个淀积周期，以喷嘴瞄准第一反应气体发放点；

确定第一发放点与能提供优化的材料淀积的第二反应气体发放点之间的距离；

使喷嘴绕枢轴旋转一定数量，该数量等于所确定的在第一和第二反应气体发放点之间的距离乘上校正因数。