[发明专利]超声气溶无土栽培法无效

专利信息
申请号: 97111968.6 申请日: 1997-07-08
公开(公告)号: CN1173966A 公开(公告)日: 1998-02-25
发明(设计)人: 李赫 申请(专利权)人: 李赫
主分类号: A01G31/00 分类号: A01G31/00
代理公司: 农业部专利事务所 代理人: 蔡世英
地址: 101*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 声气 无土 栽培法
【说明书】:

本发明涉及一种超声波雾化技术,具体地说,是超声(SW)气溶栽培方法。

有关气溶栽培法的发明,中国专利CN91106091公开了一种衍射气溶离子无土栽培电灌器,它对植物、微生物、滋生物等进行衍射气溶离子栽培。但是该方法在生产实践中,还有很多问题没有解决,如营养液的EC值、……,因此,目前还不能用于生产。

本发明的目的在于针对上述缺陷,提出了一种能够用于生产的超声(SW)气溶栽培法。

以下叙述本发明的主要内容:

本栽培方法的技术内容是调节营养液电导度EC值,一般来说,超声(SW)气溶栽培法的EC值要比溶液栽培法的低30%,其中叶菜类栽培需配比的浓度为:苗期EC值为0.8-1.0‰、营养生长期EC值为1.0-1.8‰;果菜类栽培需配比的浓度为:苗期EC值1.0-1.5‰、营养生长期EC值为1.5-2.0‰、结实期EC值为2.0-2.5‰。有关不同植物的营养液的配制是本领域内技术人员公知的技术,在本发明的说明书中不加赘述。

为本方法配套的专用SW气溶栽培机的核心器件由超声波振荡器和压电换能器组成,超声波振荡器产生1.7MHz/S超声波信号,为压电换能器提供能源,压电换能器将振荡器提供的电能转换成机械能,作用于水或营养液,并通过超声波的空穴作用,使之是单分子或离子状态,其活性和悬浮飘散性极强,通过谐振模,提高了转换效率,比普通的振荡器、压电换能器雾化量提高2倍以上,喷施到栽培槽内已定植的植株的根,叶培养植株,并解决了压电换能器在酸性、碱性溶液中期不受损坏的技术难题的一种方法。目前该气溶栽培机由本发明人生产,市场有售。

超声(SW)气溶栽培法有两种栽培方法,一种是无基质气溶栽培,第二种是基质气溶栽培。

1、无基质SW气溶栽培方法

(1)选择SW气溶栽培机:SW气溶栽培机有不同功率的型号。型号表示能够栽培的面积。用户可根据栽培面积,选择SW气溶栽培机的型号。

(2)栽培槽的制做

栽培槽的材料结构选择。栽培槽可以用钢筋水泥结构,或完全木质结构和砖结构。其中砖结构的造价低,制做简单。这种栽培槽制做方法如下:栽培槽的规格,宽80-120厘米,四周高30-40厘米,长度是根据温室面积或栽培面积确定。首先用砖四周垒起30-40厘米高,形成长方形槽,然后用塑料薄膜从槽底放平,再把四周围起来。定值板用聚丙稀泡沫板,在其上按一定的距离钻成园孔。最后把定值板悬空固定在离基部10厘米左右的地方。栽培槽一侧做出一个平台,准备放机器。在定植板的下部,留出喷雾口。

上述准备工作完成后,把SW气溶栽培机放在准备好的平台上,潜水泵放入营养液池内。然后把栽培苗,放入栽培槽内的定植孔内。最后把气溶栽培机时间继电器设定好,就会自动循环工作。

这种栽培法优点是,可同时解决根系吸氧,吸收营养元素和地上部营养元素的问题。加快了植物营养的积累,提高了植物生长速度,缩短生长周期。

2、基质SW气溶栽培方法

基质SW气溶栽培法就是把有机基质,或无机基质,放在栽培槽里,厚度15厘米左右,然后把植株定植在基质上。该方法是利用气溶栽培机,对植株的地上部,定时喷施,营养雾或水。喷施在栽培槽内的气溶状的雾,经过还原成液态后,渗入到基质内,使根系吸收营养的一种栽培法。该方法若采用有机基质加有机肥料,平时只喷清水,能生产出标准的绿色食品。通过试验表明,基质SW气溶栽培比原基质栽培,节约水,节约水,节约营养成分,植物生长期缩短,可增产30%。

本发明的优点在于:

1、由于气溶栽培机把植物所需要的水,营养物质高度雾化和活化,使离子的自由能增强,分子引力和阴阳离子的作用减弱,使栽培的植物的根、叶、均在不消耗自身能量的条件下吸收营养,加快养积累,提高了生长速度,缩短了生长周期。

2、提高了水和营养元素的渗透性,可以大幅度的节约水和营养物质降低了生产成本。

3、通过SW气溶栽培机杀菌的作用,控制了水和营养液中有害菌对植物的侵害,减少了植物病害发生,提高了产品的质量。

4、栽培的植物根系生长在气雾环境内,比在溶液或基质内更有利于氧气和营养元素的吸收。

上述栽培方法有明显的优点,应用范围很广,可以应用于以下几个方面:

1、应用于家庭蔬菜、花卉栽培

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