[发明专利]适用于湿法生产的铸铁搪瓷釉及其工艺

权利要求书

1、一种适用于湿法生产的铸铁搪瓷釉及其工艺，其特征在于：搪瓷釉的成份如下：

(1)底釉：二氧化硅(SiO₂)32-58、三氧化二铝(Al₂O₃)4．5-8．5、一价碱性氧化物(R₂O)8．5-18．5、氧化硼(B₂O₃)l2．5-30．5、氟化钙(CaF₂)3．0-7．0、氟硅酸钠(Na₂SiF₆)1．5-2．5、氧化钴(CoO)0-2．5、三氧化二铁(Fe₂O₃)0．8-1．2、氧化锰(MnO₂)0．8-1．3；

(2)面釉：二氧化硅(SiO₂)28-42、三氧化二铝(Al₂O₃)1．2-6、一价碱性氧化物(R₂O)10．5-18、氧化硼(B₂O₃)15-25、氟化钙(CaF₂)3．2-4．2、氟硅酸钠(Na₂SiF₆)5-10、氧化钛(TiO₂)12．5-20．5、氧化锑(Sb₂O₃)0．5-1．5、氧化镁(MgO)0-2．5、氧化锌(ZnO)0．5-1．5、五氧化二磷(P₂O₅)2-4、氧化钴(CoO)0．002-0．02。

2、一种适用于湿法生产的铸铁搪瓷釉及其工艺，其特征在于其工艺流程如下：

(1)一种新的施釉工艺

A、底釉：将底釉浆均匀地喷施在经过喷砂处理的铸铁件表面上，喷施厚度以较薄为易；

B、面釉：将面釉浆均匀地喷施在已烧成底釉后，坯胎温度在50～200℃的坯胎上，反复操作1-3遍，瓷层厚度0．3～0．7mm；

(2)一种特定的烧成制度

A、底釉：将已施底釉粉层干燥的坯胎置于820～880℃的环境下烧成，烧至底釉全部熔融至坯胎凸凹不平的表面上未形成明显的底釉层；

B、面釉：将已施釉且粉层干燥的坯胎置于760～840℃的环境下烧成，烧至瓷层全部熔融至表面出现较强的光泽为易；

(3)、对铸件的技术要求及处理工艺

A、要求：碳：3．4～3．8、(其中石墨不小于2．5)

         硅：2．2～2．9、锰：0．5～0．8、

         硫：0．02～0．1、磷：0．1～1．0；

B、处理：a、生烧：840～880℃下烧至坯胎达到炉温后保温15～30分钟出炉；

         b、打砂：用金钢砂在高压气流驱动下将铸件表面氧化皮及杂质除去至

出现崭新的表面为止。