[发明专利]等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，包括：容纳需进行等离子体处理的被处理物的减压的室；位于所述室内，为使供给的处理气体等离子化、处于面对面的一对电极；与所述面对面的一对电极的一电极相连的处理气体供给机构与高频电源；以及设置在另一电极上、对上述被处理物进行加热的加热机构，其特征在于，具有所述处理气体供给机构与高频电源的电极一侧由具有温度调节机构的温度调节构件、具有按等间隔形成多个气体喷出孔的兼作电极用的气体喷出板，以及夹于上述两者间的格子状传热构件构成，所述传热构件系为使从上述处理气体供给机构供给的处理气体均压化、按格子状形成多个使从上述兼作电极用的气体喷出板喷出的气体均压化的空间，同时，能将上述兼作电极用的气体喷出板的热量传至上述温度调节构件上的格子状传热构件。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，在所述格子状传热构件的格子状构件的整体的中心部设置接受处理气体的气体入口。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，在格子状传热构件的接近兼作电极用的气体喷出板的气体喷出孔的格子状部分上具有与该气体喷出孔相通的气体通过槽。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述格子状传热构件上形成的多个气体均压化空间为以格子状构件整体的中心为对称中心具有相同形状的空间。