[发明专利]扼流圈有效
申请号: | 97117951.4 | 申请日: | 1997-09-01 |
公开(公告)号: | CN1083139C | 公开(公告)日: | 2002-04-17 |
发明(设计)人: | 山口公一;沼田外志 | 申请(专利权)人: | 株式会社村田制作所 |
主分类号: | H01F17/06 | 分类号: | H01F17/06 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 孙敬国 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 扼流圈 | ||
本发明涉及扼流圈,尤其涉及用于消除电子设备等产生的噪声和侵入电子设备等的噪声的扼流圈。
一般来说,共式(common mode)轭流圈有少量涉及差模(differential mode)的漏感分量,因此,该共式轭流圈能有效地消除差模噪声。然而,若差模噪声强,则除了该共式轭流圈外,必须使用一个差式的轭流圈来克服这种噪声。
在共式轭流圈具有相当大的涉及差模漏感分量时,这种漏磁通可以反过来影响周围线路。在这种情况下,必须设置磁屏蔽包围该共式轭流圈。
鉴于上述情况,日本专利公开号为No.7-106140,提出了一种共式轭流圈,它能有效地消除共模噪声和差模噪声。
然而,这种提议的共式轭流圈,其整个线圈架(bobbin)由昂贵而笨重的磁性材料制作,故该轭流圈相当笨重且价贵。
而且,整个线圈架包含管形体和法兰盘等部分的复杂结构,当使用磁性材料通过注模(injection molding)等工艺制造时,需要高精技术和严格的制造条件。再有,这种磁性材料对机械碰撞相当敏感,易产生碎片、破裂等。因此,当用来制造具有复杂结构的线圈架时,相当难于处理。
本发明的目的在于提供一种易于制造的轭流圈,该轭流圈抗机械碰撞,重量轻,价廉。
为实现上述发明目的,本发明的轭流圈包含:
(a)具有管形部和设置在该管形部上的法兰盘构件的非磁性材料线圈架构件;
(b)与所述非磁性材料线圈架构件一起构成线圈架的磁性材料线圈架构件,它具有与所述管形部一起构成主体部的芯部和设置在该芯部上的法兰盘构件,该法兰盘构件与上述非磁性材料线圈架构件的法兰盘构件一起构成法兰盘部;
(c)绕制在管形部和芯部构成的主体部上的一对绕组;和
(d)一端插入所述管形部孔中形成闭合磁路的磁性材料芯。
而且,本发明的轭流线圈还包括一磁性材料罩,与所述磁性材料线圈架构件的法兰盘构件的端部相结合,并与所述磁性材料线圈架构件一起构成闭合磁路。
按照上述结构,在这种轭流线圈中,当共模噪声电流流经该对绕组时,每个绕组中产生磁通。这些磁通相加。然后在构成闭合磁路的磁性材料芯中产生涡流损耗变换为热能,得到衰减,由此,消除共模噪声电流。
当差模噪声电流流经该对线圈时,绕组中产生磁通。该磁通环绕着磁性材料线圈架构件和磁性罩形成的闭合磁路,在被衰减之前,由涡流损耗变为热能,由此消除差模噪声电流。
由于线圈架由非磁性材料线圈架构件(该构件便宜且轻)和磁性材料线圈架构件(该构件贵而重)构成,故比已有技术的线圈架便宜和轻。
而且,非磁性材料线圈架构件虽有带主体部和法兰盘构件的复杂结构,但它可用注模(injection molding)等方便制成,另一方面,磁性材料线圈架构件虽相当难制作,但它只有带芯部和法兰盘构件的简单结构,因此,线圈架易于制造。由于磁性材料线圈架构件结构简单,它不易产生碎片、破裂等,因此,有利于线圈架的处理。
附图概述
图1表明本发明一实施例轭流圈的分解立体图;
图2表明图1所示轭流圈外观立体图;
图3为图2所示轭流圈的等效电路图;
图4(a)和4(b)为图2所示轭流圈如何消除共模噪声的原理图,其中图4(a)为磁路图,图4(b)为电路图;和
图5(a)和5(b)为图2所示轭流圈如何消除差模噪声的原理图,其中图5(a)为磁路图,图5(b)为电路图。
下面,参照附图说明本发明一实施例的扼流圈。
如图1和图2所示,扼流圈1通常包括线圈架2,磁性材料芯3和4,一对绕组5和6,和磁性材料罩15。线圈架2按照平行于轴的平面分成两个线圈架构件21和22。线圈架构件21设有芯部23a,在其两端设有法兰盘构件24a和25a,在其中部设有法兰盘构件26a。线圈架构件22设有管形部23b,在该管形部23b的两端和中部设有法兰盘构件24b、25b和26b。引脚18植入法兰盘构件24b和25b。引脚18也可设在线圈架构件21中,但最好设在线圈架构件22中。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社村田制作所,未经株式会社村田制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/97117951.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。