[发明专利]涂敷硬碳膜的基底及其制造方法无效
申请号: | 97118532.8 | 申请日: | 1997-09-08 |
公开(公告)号: | CN1182807A | 公开(公告)日: | 1998-05-27 |
发明(设计)人: | 堂本洋一;平野均;蔵本庆一;木山精一 | 申请(专利权)人: | 三洋电机株式会社 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/02;C30B29/04 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 张政权 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 涂敷硬碳膜 基底 及其 制造 方法 | ||
1.一种涂敷硬碳膜的基底,其特征在于包括:
基底:
在所述基底上形成的中间层,所述中间层主要由从Al、Cr、Sn、Co和B及它们的氧化物、氮化物和碳化物中选出的至少一种构成;以及
在所述中间层上形成的硬碳膜。
2.如权利要求1所述的涂敷硬碳膜的基底,其特征在于所述基底包括金属或合金,所述金属或合金主要包括Ni或Al或不锈钢。
3.如权利要求1或2所述的涂敷硬碳膜的基底,其特征在于所述基底是用于电动剃须刀刀片的基底。
4.如权利要求1所述的涂敷硬碳膜的基底,其特征在于所述基底包括铸铁、钢、不锈钢、铁合金、非铁金属材料、陶瓷、贵金属或碳。
5.如权利要求1、2或4所述的涂敷硬碳膜的基底,其特征在于所述基底是用于滑动部分的基底。
6.如权利要求1-5中任一项所述的涂敷硬碳膜的基底,其特征在于用溅射法形成所述中间层。
7.一种用于制备如权利要求1-6中任一项的涂敷硬碳膜的基底的方法,其特征在于通过溅射法在所述基底上形成所述中间层,在所述溅射法中,把射频电压加到基底上,从而在基底中产生的自偏电压不超过-20V。
8.一种在基底上设置硬碳膜的方法,其特征在于包括以下步骤:
通过电镀在所述基底上形成中间层;以及
在所述中间层上形成所述硬碳膜。
9.一种在基底上设置硬碳膜的方法,其特征在于包括以下步骤:
通过电铸在模子上淀积形成所述基底;
通过电镀在所述基底上形成中间层;以及
在所述中间层上形成所述硬碳膜。
10.如权利要求9所述的方法,其特征在于在电镀步骤中,在基底留在模子上时形成所述中间层。
11.如权利要求8-10中任一项所述的方法,其特征在于所述基底的至少一个表面是导电的。
12.如权利要求8-11中任一项所述的方法,其特征在于所述基底包括主要由Ni或Al或不锈钢形成的金属或合金。
13.如权利要求8-12中任一项所述的方法,其特征在于所述基底是电动剃须刀刀片的基底。
14.如权利要求8-11中任一项所述的方法,其特征在于所述基底包括铸铁、钢、不锈钢、铁合金、非铁金属材料、陶瓷、贵金属或碳。
15.如权利要求8-12和14中任一项所述的方法,其特征在于所述基底是滑动部分的基底。
16.如权利要求8-15中任一项所述的方法,其特征在于所述中间层包括从Ru、Cr、Sn和Co或主要包括它们的合金构成的组中选出的至少一种金属。
17.如权利要求8-16中任一项所述的方法,其特征在于在所述中间层中散布氧化物、氮化物或碳化物构成的微小颗粒。
18.一种电动剃须刀的刀片,其特征在于所述刀片具有一基片,依据权利要求8-13、16和17中任一项所述的方法通过中间层在该基片上形成的硬碳膜。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的