[发明专利]荫罩的制造方法及荫罩的制造装置无效

专利信息
申请号: 97119323.1 申请日: 1997-09-29
公开(公告)号: CN1096095C 公开(公告)日: 2002-12-11
发明(设计)人: 二阶堂胜;大竹康久;平原祥子 申请(专利权)人: 东芝株式会社
主分类号: H01J9/14 分类号: H01J9/14;B05C1/08
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 方晓虹
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 制造 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种荫罩的制造方法,其特征在于,包括以下工序:将具有第1主面和第2主面、作为荫罩基材用的带状金属薄板的所述第1主面向下配置,所述第1主面上通过蚀刻已形成多个凹部,所述第2主面上已形成具有多个开口的保护层,且在所述第1主面的下方,设置耐蚀刻层涂敷装置,该装置具有直径20mm~60mm的凹印辊、将耐蚀刻层涂敷液供给到所述凹印辊上的构件以及在所述凹印辊上设置的修整刮片,在大致水平运送所述带状金属薄板的同时,使所述凹印辊以所述带状金属薄板的运送速度的4倍至25倍的圆周速度与所述带状金属薄板的运送方向逆向地旋转并与所述第1主面接触,将所述凹印辊所接触的所述第1主面上的位置的相反侧的第2主面上的位置保持在自由状态,同时将所述耐蚀刻层涂敷液供给到所述凹印辊,在用所述修整刮片刮去所述凹印辊上多余的耐蚀刻层涂敷液后,通过所述凹印辊隔着涂敷液而与所述第1主面的接触,对所述第1主面进行涂敷,从而形成耐蚀刻层的工序;以及,

对所述第2主面进行蚀刻、在所述第2主面上形成与在第1主面上形成的所述凹部连通的开孔的工序。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述第2主面上的位置的下游位置再设置辅助辊。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述耐蚀刻层涂敷液由UV硬化型的树脂构成。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,预先制作所述带状金属板,在所述第1主面上形成具有多个开口的第1主面保护层,在所述第2主面上形成具有多个开口的第2主面保护层,通过对所述第1主面进行蚀刻,形成所述凹部。

5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,在去除所述第1主面保护层前,涂敷所述耐蚀刻层涂敷液。

6.一种荫罩的制造方法,其特征在于,包括以下工序:预先制作具有第1主面和第2主面、作为荫罩基材用的带状金属薄板,在所述第1主面上通过蚀刻形成多个凹部,在所述第2主面上形成具有多个开口的保护层,在所述第1主面上设置第1耐蚀刻层涂敷装置,预先向第1主面供给耐蚀刻层涂敷液;

将第1主面向下配置,且在所述第1主面的下侧,设置第2耐蚀刻层涂敷装置,该装置具有直径20mm~60mm的凹印辊、将耐蚀刻层涂敷液供给到所述凹印辊的构件以及在所述凹印辊上设置的修整刮片,在大致水平运送所述带状金属薄板的同时,使所述凹印辊以所述带状金属薄板的运送速度的4倍至25倍的圆周速度与所述带状金属薄板的运送方向逆向地旋转并与所述第1主面接触,将所述凹印辊接触的所述第1主面上的位置的相反侧的第2主面上的位置保持在自由状态,同时将所述耐蚀刻层涂敷液供给到所述凹印辊,在用所述修整刮片刮去所述凹印辊上多余的耐蚀刻层涂敷液后,通过所述凹印辊与所述第1主面的接触,对所述第1主面进行涂敷并对预先供给的涂敷液层的厚度进行限定,从而形成耐蚀刻层的工序;以及,

对所述第2主面进行蚀刻、在所述第2主面上形成与在第1主面上形成的凹部连通的开孔的工序。

7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述第1耐蚀刻层涂敷装置具有直径20mm~60mm的凹印辊和将耐蚀刻层涂敷液供给到凹印辊上的耐蚀刻层涂敷液供给构件,预先供给所述耐蚀刻层涂敷液的工序系一面大致水平地运送所述带状金属薄板,一面使所述凹印辊与所述带状金属薄板的运送方向逆向地旋转并与向下配置的所述第1主面接触,将所述凹印辊接触的所述第1主面上的位置的相反侧的第2主面上的位置保持在自由状态,同时向凹印辊上供给耐蚀刻层涂敷液以对所述第1主面进行涂敷并供给耐蚀刻层涂敷液。

8.如权利要求7所述的方法,其特征在于,在所述第1耐蚀刻层涂敷装置的所述凹印辊上再设置修整刮片,所述耐蚀刻层涂敷液被供给到所述凹印辊,在由所述修整刮片刮去多余的耐蚀刻层涂敷液后,供给到所述第1主面。

9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述第1耐蚀刻层涂敷装置的所述凹印辊的圆周速度是所述带状金属薄板的运送速度的4倍至25倍。

10.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述第1耐蚀刻层涂敷装置具有狭缝式喷嘴。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东芝株式会社,未经东芝株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/97119323.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top