[发明专利]抛光组合物

权利要求书

1.一种抛光铝、铜或钨膜的组合物，它包含水和选自二氧化硅，氧化铝，氧化铈，氮化硅和氧化锆的抛光剂，所述组合物还包含溶解在组合物中的铁(III)化合物，其中铁(III)化合物选自焦磷酸铁(III)，柠檬酸铁(III)，柠檬酸铁(III)铵，草酸铁(III)铵，硫酸铁(III)铵，高氯酸铁(III)，氯化铁(III)，硫酸铁(III)和磷酸铁(III)。

2.如权利要求1所述的抛光铝膜的抛光组合物，其中铁(III)化合物选自硫酸铁(III)铵，柠檬酸铁(III)，柠檬酸铁(III)铵和草酸铁(III)铵。

3.如权利要求1所述的抛光铜或钨膜的抛光组合物，其中铁(III)化合物选自柠檬酸铁(III)，柠檬酸铁(III)铵，草酸铁(III)铵，硫酸铁(III)铵，高氯酸铁(III)，氯化铁(III)和硫酸铁(III)。

4.如权利要求1所述的抛光钨膜的抛光组合物，其中铁(III)化合物选自硫酸铁(III)铵和硫酸铁(III).

5.如权利要求1所述的抛光铜膜的抛光组合物，其中铁(III)化合物为柠檬酸铁(III)。

6.如权利要求1所述的抛光组合物，其中以组合物的总量计，抛光剂的量为0.1至50重量％，水的量为10至99.89重量％，而铁(III)化合物的量为0.01至40重量％。

7.如权利要求1所述的抛光组合物，其中由BET法测定的二氧化硅的平均颗粒尺寸为0.005至0.5μm，由BET法测定的氧化铝，氮化硅和氧化锆的平均颗粒尺寸各为0.01至10μm，而由扫描电子显微镜测得的氧化铈的平均颗粒尺寸为0.01至10μm。

8.如权利要求1所述的组合物的用途，它用作抛光铝、铜或钨膜的试剂。

9.一种抛光铝、铜或钨膜的方法，其中使用权利要求1所述的组合物作为抛光铝、铜或钨膜的试剂。