[发明专利]使用氟化氩光致抗蚀剂的方法和装置无效

专利信息
申请号: 97126153.9 申请日: 1997-12-31
公开(公告)号: CN1187495A 公开(公告)日: 1998-07-15
发明(设计)人: 郑载昌;卜哲圭;白基镐 申请(专利权)人: 现代电子产业株式会社
主分类号: C08F32/00 分类号: C08F32/00;C08F18/24;G03F7/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 丁业平
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 使用 氟化 氩光致抗蚀剂 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种光致抗蚀共聚物,它是由一种或多种式II的双环烯化合物、式III的马来酸酐或式IV的碳酸亚乙烯酯聚合而得的:

(式II)

其中R代表氢或含有1-10取代或未取代碳原子的直链或支链烷基,且n是1或2,

(式III)

(式IV)

2.根据权利要求1的光致抗蚀共聚物,其中所述的双环烯选自的组包括5-降冰片烯-2-羧酸2-羟乙酯、5-降冰片烯-2-羧酸叔丁酯、5-降冰片烯-2-羧酸、双环[2,2,2]辛-5-烯-2-羧酸2-羟乙酯,双环[2,2,2]辛-5-烯-2-羧酸叔丁酯和双环[2,2,2]辛-5-烯-2-羧酸。

3.根据权利要求1的光致抗蚀共聚物,其中所述R选自氢、2-羟乙基和叔丁基。

4.根据权利要求1的光致抗蚀共聚物,其中所述共聚物分子量的范围是大约3000-100000。

5.根据权利要求1的光致抗蚀共聚物,其中所述共聚物是通过碳酸亚乙烯酯和一种或多种R是氢、2-羟乙基或叔丁基且n是1的双环烯的共聚来制备的。

6.根据权利要求5的光致抗蚀共聚物,其中所述双环烯选自5-降冰片烯-2-羧酸2-羟乙酯、5-降冰片烯-2-羧酸叔丁酯、5-降冰片烯-2-羧酸、双环[2,2,2]辛-5-烯-2-羧酸2-羟乙酯、双环[2,2,2]辛-5-烯-2-羧酸叔丁酯和双环[2,2,2]辛-5-烯-2-羧酸。

7.一种光致抗蚀共聚物的制备方法,包括步骤:使选自一种或多种下面式II的双环烯、式III的马来酸酐或式IV的碳酸亚乙烯酯的一种或多种化合物进行共聚:

(式II)

其中R代表氢或含有1-10取代或未取代碳原子的直链或支链烷基,且n是1或2,

(式III)

(式IV)

8.根据权利要求7制备光致抗蚀共聚物的方法,其中所述双环烯选自5-降冰片烯-2-羧酸2-羟乙酯、5-降冰片烯-2-羧酸叔丁酯、5-降冰片烯-2-羧酸、双环[2,2,2]辛-5-烯-2-羧酸2-羟乙酯、双环[2,2,2]辛-5-烯-2-羧酸叔丁酯和双环[2,2,2]辛-5-烯-2-羧酸。

9.根据权利要求7制备光致抗蚀共聚物的方法,其中所述的R选自氢、2-羟乙基和叔丁基。

10.根据权利要求7制备光致抗蚀共聚物的方法,其中所述共聚物分子量的范围是3000-100000。

11.根据权利要求7制备光致抗蚀共聚物的方法,所述选自一种或多种式II的双环烯、式III的马来酸酐或式IV的碳酸亚乙烯酯的一种或多种化合物是利用游离基聚合引发剂来进行共聚的。

12.根据权利要求7制备光致抗蚀共聚物的方法,其中所述共聚物是通过碳酸亚乙烯酯和一种或多种其中R是氢、2-羟乙基或叔丁基且n是1的双环烯的共聚来制备的。

13.根据权利要求12制备光致抗蚀共聚物的方法,其中所述碳酸亚乙烯酯和一种或多种其中R是氢、2-羟乙基或叔丁基且n是1的双环烯是利用游离基聚合引发剂来共聚的。

14.根据权利要求11和13制备光致抗蚀共聚物的任一方法,其中所述游离基聚合引发剂选自过氧化苯乙酰、2,2′-偶氮双异丁腈(AIBN)、过氧化乙酰、过氧化月桂酰和过乙酸叔丁酯。

15.根据权利要求7制备光致抗蚀共聚物的方法,所述选自一种或多种式II的双环烯、式III的马来酸酐或式IV的碳酸亚乙烯酯的一种或多种化合物是利用本体聚合或溶液聚合来进行共聚的。

16.根据权利要求15制备光致抗蚀共聚物的方法,其中所述的聚合溶剂选自环己酮、甲乙酮、苯、甲苯、二噁烷、二甲酰胺、四氢呋喃,单独或结合使用。

17.一种光致抗蚀剂,包括由选自式II的双环烯、式III的马来酸酐或式IV的碳酸亚乙烯酯的一种或多种化合物共聚的共聚物:

(式II)

其中R代表氢或含有1-10取代或未取代碳原子的直链或支链烷基,且n是1或2,

(式III)

(式IV)

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