[发明专利]从铝土矿中除去二氧化硅

权利要求书

1.由制备氧化铝的拜耳法消化步骤的原料中除去反应性二氧化硅的方法，包括以下步骤：

(a)在下列工艺条件下，使拜耳法原料与苛性钠溶液接触，将至少50％二氧化硅溶解并稳定到溶液中，浓度至少为3gpL，并且从溶解的二氧化硅的溶液中没有明显量的沉淀：

(i)工艺出口处溶液组成：

--按Na₂CO₃计的苛性钠浓度大于250gpL；

--按Al₂O₃计的氧化铝浓度大于125gpL；

(ii)温度：60-125℃；

(iii)接触时间：大于20分钟；

产生载带二氧化硅的溶液和固体残渣；

(b)从二氧化硅溶解步骤(a)的固体残渣中分离出载带二氧化硅的溶液，在不要促进二氧化硅的明显沉淀的条件下进行；和

(c)从分离步骤(b)的载带二氧化硅的溶液中沉淀硅铝酸盐并形成固体硅铝酸盐产品。

2.根据权利要求1的方法，其中二氧化硅溶解步骤(a)使小于20％重量的原料中的氧化铝溶解。

3.根据权利要求1的方法，其中沉淀硅铝酸盐的(c)步骤包括下列一个或多个步骤：向载带二氧化硅的溶液中添加晶种、加热载带二氧化硅的溶液、稀释载带二氧化硅的溶液和向载带二氧化硅的溶液中添加添加剂。

4.根据权利要求1的方法，其中二氧化硅溶解步骤(a)的处理条件使至少80％的二氧化硅溶解并稳定到溶液中。

5.根据权利要求4的方法，其中二氧化硅溶解步骤(a)的处理条件使至少90％的二氧化硅溶解并稳定到溶液中。

6.根据权利要求1的方法，其中溶解步骤(a)中的溶解和稳定的二氧化硅的量为6-15gpL。

7.根据权利要求1的方法，其中二氧化硅溶解步骤(a)中的苛性钠溶液的按Na₂CO₃计的苛性钠浓度高于300gpL。

8.根据权利要求7的方法，其中苛性钠溶液的按Na₂CO₃计的苛性钠浓度高于350gpL。

9.根据权利要求1的方法，其中二氧化硅溶解步骤(a)中的苛性钠溶液的按Al₂O₃计的氧化铝浓度高于150gpL。

10.根据权利要求9的方法，其中二氧化硅溶解步骤(a)中苛性钠溶液的按Al₂O₃计的氧化铝浓度高于175gpL。

11.根据上述任一项权利要求的方法，其中二氧化硅溶解步骤(a)中的温度为80-105℃。

12.根据权利要求1的方法，其中二氧化硅溶解步骤(a)的接触时间至少为1小时。

13.根据权利要求12的方法，其中接触时间为2-4小时。

14.根据权利要求1的方法，其中供应到二氧化硅溶解步骤(a)中的苛性钠溶液中的溶解二氧化硅含量低于2gpL。

15.根据权利要求1的方法，其中二氧化硅溶解步骤(a)中原料/苛性钠溶液混合物中载带的固体量为50-700gpL。

16.根据权利要求1的方法，其中原料含有大于5％的勃姆石或水铝石。