[发明专利]用于氧化物CMP的组合物

权利要求书

1.一种含水化学机械抛光组合物，包括：

一种盐；

可溶性铈；和

羧酸，其中该组合物具有pH约3至约11。

2.权利要求1的含水化学机械抛光组合物，其中pH为约3.8至约5.5。

3.权利要求1的含水化学机械抛光组合物，其中盐为硝酸盐。

4.权利要求3的含水化学机械抛光组合物，其中硝酸盐为如下通式的化合物：

                         (M)_n(NO₃)_m

其中n和m都为整数，其中当n＝m时，M为碱土金属、H、NH₄或NR₄，其中R为具有1至10个碳原子的烷基，其中当n≠m时，M为多价阳离子或金属或多价阳离子和单价阳离子的组合。

5.权利要求3的含水化学机械抛光组合物，包括约0.05至约6.0重量％的硝酸盐。

6.权利要求3的含水化学机械抛光组合物，其中硝酸盐为硝酸铈铵。

7.权利要求1的含水化学机械抛光组合物，其中羧酸选自单官能酸、双官能酸和其盐。

8.权利要求1的含水化学机械抛光组合物，其中羧酸为至少一种选自乙酸、己二酸、丁酸、癸酸、己酸、辛酸、柠檬酸、戊二酸、乙醇酸、甲酸、富马酸、乳酸、月桂酸、苹果酸、马来酸、丙二酸、肉豆蔻酸、草酸、棕榈酸、邻苯二甲酸、丙酸、丙酮酸、硬脂酸、丁二酸、酒石酸、戊酸、2-(2-甲氧基乙氧基)乙酸、2-[2-(2-甲氧基乙氧基)乙氧基]乙酸和聚(乙二醇)双(羧甲基)醚的至少一种化合物和其混合物。

9.权利要求1的含水化学机械抛光组合物，其中羧酸为乙酸。

10.权利要求1的含水化学机械抛光组合物，包括约0.05至约10.0重量％的羧酸。

11.权利要求10的含水化学机械抛光组合物，包括约0.1至约3.0重量％的羧酸。

12.权利要求1的含水化学机械抛光组合物，包括约0.05至约10重量％的可溶性铈。

13.权利要求1的含水化学机械抛光组合物，其中可溶性铈为至少一种选自硫酸铈铵、乙酸铈、水合硫酸铈、氢氧化铈、溴酸铈、溴化铈、氯化铈、草酸铈、硝酸铈、碳酸铈的化合物和其混合物。

14.权利要求1的含水化学机械抛光组合物，其中盐和可溶性铈为硝酸铈铵。

15.权利要求14的含水化学机械抛光组合物，包括约0.1至约4.0重量％的硝酸铈铵。

16.一种化学机械抛光浆料，包括：

一种盐；

可溶性铈；

羧酸；和

磨料，

其中该组合物具有pH约3至约11。

17.权利要求16的化学机械抛光浆料，包括约1至约25重量％的磨料。

18.权利要求16的化学机械抛光浆料，其中磨料为金属氧化物。

19.权利要求18的化学机械抛光浆料，其中金属氧化物磨料为至少一种选自氧化铝、氧化钛、氧化锆、氧化锗、氧化硅、氧化铈的化合物或其混合物和化学掺混物。

20.权利要求19的化学机械抛光浆料，其中磨料为至少两种选自氧化铝、氧化钛、氧化锆、氧化锗、氧化硅、氧化铈的元素氧化物的物理混合物。

21.权利要求16的化学机械抛光浆料，其中将磨料研磨。

22.权利要求17的化学机械抛光浆料，包括约2至约15重量％的金属氧化物磨料。

23.权利要求17的含水化学机械抛光浆料，包括约0.5至约10重量％的硝酸盐，约0.5至约10重量％的羧酸和约0.5至约10重量％的可溶性铈。

24.权利要求17的含水化学机械抛光浆料，包括约0.1至约3.0重量％的乙酸和约0.1至约4.0重量％的硝酸铈铵，其中浆料具有pH约3.8至约5.5。