[发明专利]黄铜矿的浸出方法无效
申请号: | 97182088.0 | 申请日: | 1997-03-03 |
公开(公告)号: | CN1081239C | 公开(公告)日: | 2002-03-20 |
发明(设计)人: | A·平奇斯;P·J·迈伯格;C·范德默维 | 申请(专利权)人: | 明特克公司 |
主分类号: | C22B15/00 | 分类号: | C22B15/00;C22B3/18 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 段承恩 |
地址: | 南非*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 黄铜矿 浸出 方法 | ||
1.一种浸出黄铜矿的方法,其中在不存在银催化剂的条件下,使用硫酸铁氧化硫化物物料,该方法的特征在于,通过控制在浸出溶液中的铁离子(Fe3+)与亚铁离子(Fe2+)的比率来使黄铜矿的表面电位维持在以标准甘汞作参比电极测量出的350-450mV的范围内。
2.按照权利要求1的方法,其中把亚铁离子氧化成铁离子的过程是一个细菌氧化的过程。
3.按照权利要求2的方法,其中通过控制向细菌氧化步骤的供氧量来控制铁离子与亚铁离子的比率。
4.按照权利要求2或3中任何一项的方法,其中在独立的反应器中进行所述细菌氧化过程,并且将浸出溶液在浸出过程中进行循环。
5.按照权利要求4的方法,其中可在超出浸出反应器中浸出溶液的范围为350-450mV所需的氧化还原电位下进行所述细菌氧化过程,并通过控制富三价铁的浸出溶液加入到浸出反应器中的加入速率,来控制浸出反应器中的氧化还原电位。
6.按照权利要求5的方法,其中额外的工艺条件选自:
(i)在350到450mV之间的表面电位范围或在350到450mV之间的实际表面电位;
(ii)浸出工艺的温度;
(iii)浸出工艺的pH值;和
(iv)黄铜矿的研磨细度
它们根据经验选择以提高该工艺的效率。
7.按照权利要求6的方法,其中浸出溶液从浸出工艺循环到去除铜的步骤,以去除一部分溶解的铜。
8.按照权利要求4的方法,其中该方法是一种堆摊浸出方法,其中使用浸出溶液以提供所述的表面电位。
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