[发明专利]调理香波组合物

权利要求书

1.一种调理香波组合物，包括

(a)约0.05％重量至约50％重量的多亲水基的阴离子表面活性剂；

(b)约0.05％重量至约20％重量的选自阳离子表面活性剂、阳离子聚合物以及它们的混合物的阳离子调理剂；

(c)约0.01％重量至约20％重量的硅氧烷化合物；和

(d)水性载体。

2．根据权利要求1的调理香波组合物，其中多亲水基的阴离子表面活性剂分子中包括至少一个羧基基团。

3．根据权利要求1的调理香波组合物，还包括一种附加的去污表面活性剂。

4．根据权利要求3的调理香波组合物，其中附加的去污表面活性剂包括副阴离子表面活性剂和两性表面活性剂，其中多亲水基的阴离子表面活性剂和附加的去污表面活性剂的总量为组合物重量的约5％至约75％。

5．根据权利要求4的调理香波组合物，其中该组合物基本上没有烷基硫酸盐表面活性剂。

6．根据权利要求1的调理香波组合物，其中阳离子表面活性剂分子中包含至少一个具有至少16个碳原子的烷基链。

7．根据权利要求1的调理香波组合物，其中阳离子聚合物选自Polyquaternium 10、Polyquaternium 24以及它们的混合物。

8．根据权利要求1的调理香波组合物，其中硅氧烷化合物是粘度为约100000厘沲至约1500000厘沲的聚二甲基硅氧烷。

9．根据权利要求1的调理香波组合物，其中硅氧烷化合物是乳液聚合的硅氧炕聚合物，其中硅氧烷聚合物分散为平均大小不超过约450纳米的微粒。

10．根据权利要求9的调理香波组合物，其中乳液聚合的硅氧烷聚合物选自分子量至少为100000的二甲基硅烷醇、分子量至少为10000的烷氨基化的聚二甲基硅氧烷以及它们的混合物。

11．根据权利要求10的调理香波组合物，其中硅氧烷乳液包括分散为颗粒平均大小约150纳米至约250纳米的硅氧烷聚合物。

12．根据权利要求1的调理香波组合物，还包括约0.1％重量至约5％重量的去头屑剂。

13．根据前述任一项权利要求的调理香波组合物，还包括约0.05％重量至约20％重量的附加的调理剂，所述调理剂选自高熔点化合物、油性化合物、非离子聚合物以及它们的混合物。