[发明专利]可在氧化气氛下接合的铁基材料的液相扩散接合用铁基合金箔无效
| 申请号： | 97190924.5 | 申请日： | 1997-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN1198116A | 公开（公告）日： | 1998-11-04 |
| 发明（设计）人： | 长谷川泰士;津留英司;佐藤有一;尾崎茂克 | 申请（专利权）人： | 新日本制铁株式会社 |
| 主分类号： | B23K20/00 | 分类号： | B23K20/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 龙传红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氧化 气氛 接合 基材 扩散 用铁基合 金箔 | ||
1、一种用于铁基材料的液相扩散接合的铁基合金箔，能使接合在氧化气氛下进行，特点在于：
用原子百分数表示，化学组成包括：1.0～20.0％的P，1.0～20.0％的Si和0.1～20.0％的V，其余基本由Fe和不可避免的杂质构成；
箔的厚度为3.0～100μm。
2、一种用于铁基材料的液相扩散接合的铁基合金箔，能使接合在氧化气氛下进行，特点在于：
用原子百分数表示，化学组成包括：1.0～20.0％的P，1.0～20.0％的Si和0.1～20.0％的V，还含有0.1～20.0％的Cr、0.1～15.0％的Ni和0.1～15.0％的Co中的一种或多种，其余基本由Fe和不可避免的杂质构成；
箔的厚度为3.0～100μm。
3、一种用于铁基材料的液相扩散接合的铁基合金箔，能使接合在氧化气氛下进行，特点在于：
用原子百分数表示，化学组成包括：1.0～20.0％的P，1.0～20.0％的Si和0.1～20.0％的V，还含有0.1～10.0％的W、0.1～10.0％的Nb和0.1～10.0％的Ti中的一种或多种，其余基本由Fe和不可避免的杂质构成；
箔的厚度为3.0～100μm。
4、一种用于铁基材料的液相扩散接合的铁基合金箔，能使接合在氧化气氛下进行，特点在于：
用原子百分数表示，化学组成包括：1.0～20.0％的P，1.0～20.0％的Si和0.1～20.0％的V，还含有0.1～20.0％的Cr、0.1～15.0％的Ni和0.1～15.0％的Co中的一种或多种，此外，还含有0.1～10.0％的W、0.1～10.0％的Nb和0.1～10.0％的Ti中的一种或多种，其余基本由Fe和不可避免的杂质构成；
箔的厚度为3.0～100μm。
5、根据权利要求1～4的任一个的用于铁基材料的液相扩散接合并能使接合在氧化气氛下进行的铁基合金箔，特点在于具有基本为非晶态的组织。
6、一种用于铁基材料的液相扩散接合的铁基合金箔，能使接合在氧化气氛下进行，特点在于：
用原子百分数表示，化学组成包括：1.0～20.0％的B，1.0～20.0％的Si和0.1～20.0％的V，其余基本由Fe和不可避免的杂质构成；
箔的厚度为3.0～100μm。
7、一种用于铁基材料的液相扩散接合的铁基合金箔，能使接合在氧化气氛下进行，特点在于：
用原子百分数表示，化学组成包括：1.0～20.0％的B，1.0～20.0％的Si和0.1～20.0％的V，还含有0.1～20.0％的Cr、0.1～15.0％的Ni和0.1～15.0％的Co中的一种或多种，其余基本由Fe和不可避免的杂质构成；
箔的厚度为3.0～100μm。
8、一种用于铁基材料的液相扩散接合的铁基合金箔，能使接合在氧化气氛下进行，特点在于：
用原子百分数表示，化学组成包括：1.0～20.0％的B，1.0～20.0％的Si和0.1～20.0％的V，还含有0.1～10.0％的W、0.1～10.0％的Nb和0.1～10.0％的Ti中的一种或多种，其余基本由Fe和不可避免的杂质构成；
箔的厚度为3.0～100μm。
9、一种用于铁基材料的液相扩散接合的铁基合金箔，能使接合在氧化气氛下进行，特点在于：
用原子百分数表示，化学组成包括：1.0～20.0％的B，1.0～20.0％的Si和0.1～20.0％的V，还含有0.1～20.0％的Cr、0.1～15.0％的Ni和0.1～15.0％的Co中的一种或多种，此外，还含有0.1～10.0％的W、0.1～10.0％的Nb和0.1～10.0％的Ti中的一种或多种，其余基本由Fe和不可避免的杂质构成；
箔的厚度为3.0～100μm。
10、根据权利要求6～9的任一个的用于铁基材料的液相扩散接合并能使接合在氧化气氛下进行的铁基合金箔，特点在于具有基本为非晶态的组织。
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