[发明专利]在过程变送器中的压力传感器探测装置

权利要求书

1、一种过程控制系统中的变送器，其特征在于它包括有：

一压力传感器，它包括有：

一用于接收过程压力的一压力响应结构；

一电容器至少具有一对极板耦合于该压力响应结构，该电容器

的电容值与过程压力相关；

一测量电路耦合于电容器并提供与电容有关的压力输出信号；

一输出电路把压力输出信号传输到过程控制环路上；以及

一探测电路耦合于压力传感器并提供扰动输入到压力传感器，及根据响应于扰动输入而产生的电容变化所引起的压力输出变化提供出一传感器探测输出。

2、按权利要求1所说的变送器，其特征在于所说的探测电路包括一辐射发射装置，及扰动输入包括由辐射发射装置所产生的指向压力响应结构上的电磁辐射。

3、按权利要求1所说的变送器，其特征在于：辐射发射装置包括有一光发射二极管。

4、按权利要求1所说的变送器，其特征在于所说的扰动输入包括有一电输入信号加到电容器上。

5、按权利要求4所说的变送器，其特征在于所说的电输入信号包括有一电压。

6、按权利要求1所说的变送器，其特征在于探测电路监测出压力输出中的变化以便提供出一探测输出。

7、按权利要求1所说的变送器，其特征在于扰动输入包含有一脉冲，及探测电路根据压力输出中的振荡频率提供探测输出。

8、按权利要求1所说的变送器，其特征在于扰动输入包括有一脉冲，以及探测电路根据压力输出中的衰变率提供探测电路。

9、按权利要求1所说的变送器，其特征在于所说的扰动输入包括一脉冲，以及探测电路根据压力输出的幅度，提供探测输出。

10、按权利要求1所说的变送器，其特征在于测量电路根据传感器的探测输出而补偿压力输出。