[发明专利]具有检测电路的电路装置无效
申请号: | 97193448.7 | 申请日: | 1997-03-26 |
公开(公告)号: | CN1218572A | 公开(公告)日: | 1999-06-02 |
发明(设计)人: | T·泽特尔;D·萨默;G·格奥尔格阿科什 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
主分类号: | G11C29/00 | 分类号: | G11C29/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 马铁良,张志醒 |
地址: | 联邦德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 检测 电路 装置 | ||
本发明涉及一个电路装置,其具有预定数目的在半导体衬底上按规则并排形成的组线路,在该电路装置上,连接多个在半导体衬底上并且基本上互相同样形成的电子基本电路,对此,预先规定一个检测电路,其用于检查基本电路和/或组线路的电子作用能力。
根据高度集成的半导体电路的生产,检查其动态和静态的作用能力是必须的,对于生产者来说这意味着实施大部分昂贵的检测步骤。根据大量的所有可能的逻辑状态,在各种情况下的综合电路上,电路的全面检查只能消耗大量的时间。由于特别是在高度集成的半导体储存器上的检测费用是生产成本的主要部分,因此希望检测方法和检测电路在短时间内保证一个尽可能高的错误覆盖。从生产过程中尽可能早的挑选出错误电路使生产设备减轻负担,并且有助于时间和费用的节省。目前,下面使用的是特别对于电子可删除并且可编程的半导体储存装置(EEPROM)的典型的检测顺序。在真正的检测顺序开始前,删除全部的储存单元,接着根据确定的逻辑值或者对全部储存单元或者对按照预先确定的标准选择的储存单元进行编程。然后,在一般情况下通过较高温度和/或通过升高的漏级电压进行所谓重要处理。在接下来的检测过程中,例如通过确定储存单元的阀值电压位移检查储存单元的性能和EEPROM的电路元件。在储存单元的更新删除后,也许通过储存单元升高的栅级电压实施再次的重要处理,在确定储存单元的阀值电压位移的情况下这重复了性能检测。最后删除EEPROM的数据内容。在Springer-Verlag Wien NewYork,D.Rhein和H.Freitag所著的“微电子储存器”的117页,阐明了简化如此检查过程的电路技术措施。在所说的过程中,通过二或四字节的同时编程可以简化了编程方法。为了模拟在没选择的单元上正常运行中的干扰,在称为完全列队重要方法中在全部的字线或者位线上同时设置高的重要电压。在称为个别单元的临界方法中,所有的读电压以正常的工作电压运行,然而在字线上,电压在零伏和编程电压(典型的大约是+18V)之间变化,因此可以确定个别的单元截止电压。在全部的到目前为止已知的检测中,必须对储存电压反复编程并且再删除。可是这在EEPROM上正好是浪费时间的,并且引起相应的长的检测时间,因为EEPROM的编程和删除需要50ms/Byte以下。根据大量所需的编程周期,特别对于Flash-EEPROM不可以使用在DRAM检测中已知的其它算法(例如称为边界检测)。
本发明基于这个任务,给出一个开始已说明的种类的电路装置,其通过电路装置的作用能力以尽可能低的电路技术的额外花费使一个快的并且对此足够表现力的检测结果成为可能。
通过按照权利要求1的电路装置解决这个任务。
根据本发明,检测电路同样在该电路装置的半导体衬底上集成化形成,并且具有一个分配给组线路的开关装置,借助于该开关装置把第一个检测信号供给至少一个预先确定的组线路,并且把与第一检查信号相比具有不同检查电平的第二个检测信号供给一个另外的、与预先确定的组线路相比直接相邻装置的组线路。此外,预先规定一个分配给组线路的检波装置,其获得一个由组线路得出的输出信号,其中把第一或者第二检测信号供给组线路。
本发明基于这个认识,对于电路技术简单结构的并且以短的检查时间可以进行的组线路的通路和/或断路检测来说,利用了多个结构相似装置的电子电路的在各种情况下存在的空间对称性或者正规装置。在多种情况下表明,通过组线路的断路和通路检测可以查明大部分的生产限定的错误。因此发现特别有错误的组线路,同样能够查明由电子电路引起的在组线路彼此之间和在组线路与其它线路之间的有错误的电气连接。与基本电路的性能检查不同,组线路的通路和断路检测能够很快地进行。通过适合本发明的检测电路可以实施的检测过程在最短的时间内得出较多的错误覆盖,其可以以一个有错误的元件的有效的初选为基础。本发明的主要优点在于,可以电路技术非常简单地形成检测电路,并且仅包括少量的在半导体衬底上能够预先规定的附加部分,因此检测电路作为半导体电路的固定组成部分在相同的半导体衬底上集成。在多种情况下,对于检测电路的确定的组成部分来说可以同时使用必须检测的电路的本来存在的电路部分,因此减小了半导体衬底上的检测电路的附加的所需表面。
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