[发明专利]在菲涅耳透镜模具上提供漫射竖面的方法

权利要求书

1．一种在具有许多光学表面的菲涅耳透镜模具上提供漫射竖面的方法，其中毗邻光学表面被竖面隔开，该方法包括下述步骤：

(a)在许多光学表面和竖面上沉积漫射层；以及

(b)从该许多光学表面上除去漫射层，而在竖面上的漫射层基本保持完整无损。

2．根据权利要求1的方法，其中沉积步骤进一步包括在诸光学表面大体同心的模具上沉积漫射层。

3．根据权利要求1的方法，其中沉积步骤进一步包括在诸光学表面大体平行的模具上沉积漫射层。

4．根据权利要求1的方法，其中沉积漫射层步骤进一步包括电沉积一层选自铜、镍、锌、钴、锡以及它们的组合的金属。

5．根据权利要求4的方法，其中沉积步骤进一步包括用基本上没有晶粒细化剂的电沉积液电沉积漫射层。

6．根据权利要求5的方法，该方法进一步包括使电沉积液通过活性炭。

7．根据权利要求5的方法，该方法进一步包括将电沉积液加热到大约30℃或更高温度的步骤。

8．根据权利要求5的方法，该方法进一步包括将电沉积液加热到大约35℃或更高温度的步骤。

9．根据权利要求5的方法，该方法进一步包括将电沉积液加热到大约40℃或更高温度的步骤。

10．根据权利要求1方法，该方法进一步包括在沉积漫射层步骤中遮蔽选定的竖面部分。

11．根据权利要求1方法，该方法进一步包括在沉积漫射层步骤中的某一部分时间内遮蔽选定的竖面部分。

12．根据权利要求1的方法，其中沉积步骤进一步包括使电流密度大约为0.022安培/平方厘米或更低的电能通过模具。

13．根据权利要求1的方法，其中沉积步骤进一步包括使电流密度大约为0.016安培/平方厘米或更低的电能通过模具。

14．根据权利要求1的方法，其中沉积步骤进一步包括使电流密度大约为0.011安培/平方厘米(10安培/平方英尺)或更低的电能通过模具。

15．根据权利要求1的方法，其中沉积漫射层的步骤进一步包括电沉积一层铜。

16．根据权利要求15的方法，其中沉积步骤进一步包括用基本上没有晶粒细化剂的电沉积液电沉积一层铜。

17．一种在具有许多光学表面的菲涅耳透镜模具上提供漫射竖面的方法，其中模具上毗邻光学表面被竖面隔开，该方法包括下述步骤：

(a)提供电沉积液；

(b)让电沉积液通过活性炭；

(c)将电沉积液加热到约30℃或更高的温度；以及

(d)在该许多光学表面和竖面上电沉积漫射层，其中漫射层选自铜、镍、锌、钴、锡和它们的组合，而且电沉积是借助将模具放在电沉积液中并让电流密度大约为0.016安培/平方厘米或更低的电能通过模具来完成的；以及

(e)从该许多光学表面上有选择地除去漫射层，其中竖面上的漫射层基本上保持完整无损。

18．一种在具有许多光学表面的菲涅耳透镜模具上提供漫射竖面的方法，其中模具上毗邻光学表面被竖面隔开，该方法包括下述步骤：

(a)提供基本上没有晶粒细化剂的电沉积液；

(b)在众多的光学表面和竖面上电沉积漫射层，其中漫射层选自铜、镍、锌、钴、锡和它们的组合，而且电沉积是借助将模具放在电沉积液中并让电流密度大约为0.016安培/平方厘米或更低的电能通过模具来完成的；以及

(c)从这许多光学表面上有选择地除去漫射层，其中竖面上的漫射层基本上保持完整无损。

19．根据权利要求18的方法，该方法进一步包括在电沉积步骤中遮蔽选定的竖面部分。

20．根据权利要求18的方法，该方法进一步包括在电沉积步骤中的某一段时间内遮蔽选定的竖面部分。