[发明专利]含2,4－二硝基－1－萘酚的正性光刻胶组合物

权利要求书

1.一种为降低线宽振摆比率的正性光刻胶组合物，其基本成分为一种成膜的酚醛清漆树脂、一种醌-二叠氮化物光敏剂和2，4-二硝基-1-萘酚和一种或多种光刻胶溶剂，其中光刻胶溶剂选自丙二醇单烷基醚，丙二醇甲基醚乙酸酯，2-庚酮，乙酸丁酯，乙酸戊酯，3-乙氧基丙酸乙酯，乳酸乙酯，乙二醇单乙醚乙酸酯，乳酸乙酯及其混合物；2，4-二硝基-1-萘酚在光刻胶组合物中的含量为光刻胶总重量的0.5wt.％至1.5wt.％且光敏剂醌-二叠氮化物是一种重氮萘醌磺酰残基与一种酚残基的反应产物。

2.根据权利要求1的组合物，其中以光刻胶组合物的非溶剂组分计，光敏剂的含量从1wt.％至35wt.％，酚醛清漆的用量从65wt.％至95wt.％。

3.根据权利要求1的组合物进一步包括一种或多种添加剂，它们选自着色剂，表面流平剂，防条纹剂，增塑剂，粘附增强剂，增感剂和表面活性剂。

4.根据权利要求1的光刻胶组合物，其中的酚残基选自多羟基二苯酮，多羟基苯基烷烃，酚的齐聚物及其混合物。

5.根据权利要求1的光刻胶组合物，其中萘醌磺酰残基选自2，1，4-重氮萘醌磺酰，2，1，5-重氮萘醌磺酰或其混合物。

6.根据权利要求1的光刻胶组合物，其中酚醛清漆树脂是一种醛与一种或多种取代的酚单体的酸催化的缩合产物。

7.一种在基体上生成光刻胶图象的方法，包括：

a)用一种减小线宽振摆比的正性光刻胶组合物涂覆在基体上，该光刻胶组合物的基本成分为一种成膜的酚醛清漆树脂、一种醌-二叠氮化物光敏剂和2，4-二硝基-1-萘酚和一种或多种光刻胶溶剂，其中光刻胶溶剂选自丙二醇单烷基醚，丙二醇甲基醚乙酸酯，2-庚酮，乙酸丁酯，乙酸戊酯，3-乙氧基丙酸乙酯，乳酸乙酯，乙二醇单乙醚乙酸酯，乳酸乙酯及其混合物；2，4-二硝基-1-萘酚在光刻胶组合物中的含量为光刻胶总重量的0.5wt.％至1.5wt.％且光敏剂醌-二叠氮化物是一种重氮萘醌磺酰残基与一种酚残基的反应产物；

b)加热处理涂覆的基体直至基本上所有的所述溶剂去除；

c)将涂覆的光刻胶组合物进行光化辐照图象式样曝光；

d)用显影剂去除所述涂覆光刻胶组合物的成像曝光区域；和

e)如果需要，在去除步骤前或后加热处理基体。

8.根据权利要求7的方法，进一步包括在曝光步骤后显影步骤前将涂覆的基体在加热板于90℃至150℃加热30秒至180秒，或在烘箱中加热15分钟至40分钟。

9.根据权利要求7的方法，进一步包括在显影步骤后将涂覆基体在加热板上于90℃至150℃加热30秒至180秒，或在烘箱中加热15分钟至40分钟。

10.根据权利要求7的方法，其中所述的基体包括硅，铝，聚合树脂，二氧化硅，掺杂二氧化硅，氮化硅，钽，铜，多晶硅，陶瓷，铝/铜混合物，砷化镓和III/V组化合物。

11.根据权利要求7的方法，其中用波长为365nm的紫外辐照进行曝光步骤。

12.根据权利要求7的方法，其中显影剂是碱性水溶液。

13.根据权利要求7的方法，其中显影剂是氢氧化四甲基铵的水溶液。