[发明专利]由含有1,1-二氯乙烯共聚物的共混物制成的薄膜无效
申请号: | 97197312.1 | 申请日: | 1997-06-16 |
公开(公告)号: | CN1067092C | 公开(公告)日: | 2001-06-13 |
发明(设计)人: | S·贝克勒 | 申请(专利权)人: | 克里奥瓦克公司 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C08L27/08;C08K5/00;//;2308;3306) |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 杨厚昌 |
地址: | 美国南卡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 含有 氯乙烯 共聚物 共混物 制成 薄膜 | ||
1.一种薄膜,它包括:
a)密封层;
b)主体层;
c)衍生自包括以下物质的共混物的不透氧层:
1)包括衍生自1,1-二氯乙烯的基本单元的聚合物;
2)包括衍生自(甲基)丙烯酸的C1-C12烷基酯的基本单元和衍生自一种或多种具有通式CH2=CR1C(O)R2体的基本单元的加工助剂聚合物,其中,R1为H或CH3,R2为
a)OH,
b)O(CH2)nR3或
c)NH(CH2)nOH,
其中n为1-8(包括1和8)的整数,R3为氨基、羟基或环氧乙烷基团;和
3)清除HCl化合物和亲双烯体中的至少一种;和
d)机械损伤层;所述主体层位于所述不透氧层与所述密封层之间,所述不透氧层位于所述主体层与所述机械损伤层之间。
2.权利要求1的薄膜,其中所述包含衍生自1,1-二氯乙烯的基本单元的聚合物还包括衍生自氯乙烯、(甲基)丙烯酸的C1-C12烷基酯、丙烯腈、苯乙烯和乙烯基乙酸酯中至少一种的基本单元。
3.权利要求1的薄膜,其中基于所述共混物的重量计,所述加工助剂共聚物的量约为1-4%(重量)。
4.权利要求1的薄膜,其中所述加工助剂聚合物包括衍生自甲基丙烯酸的C1-C12烷基酯的基本单元。
5.权利要求1的薄膜,其中R2为OH。
6.权利要求1的薄膜,其中R2为O(CH2)nR3。
7.权利要求6的薄膜,其中n为1-4(包括1和4)的整数。
8.权利要求6的薄膜,其中R3为氨基。
9.权利要求6的薄膜,其中R3为羟基。
10.权利要求6的薄膜,其中R3为环氧乙烷基团。
11.权利要求1的薄膜,其中R2为NH(CH2)nOH。
12.权利要求11的薄膜,其中n为1-4(包括1和4)的整数。
13.权利要求1的薄膜,其中所述机械损伤层是外层。
14.权利要求13的薄膜,其中所述机械损伤层包括包含衍生自乙烯的基本单元和任选衍生自C4-C12α-烯烃、乙烯基乙酸酯、(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸的C1-C12烷基酯中至少一种的基本单元的聚合物。
15.权利要求13的薄膜,还包括:
e)位于所述密封层与所述主体层之间的粘结层,和
f)位于所述不透氧层与所述机械损伤层之间的粘结层。
16.权利要求1的薄膜,其中所述机械损伤层是内层。
17.权利要求16的薄膜,还包括:
e)在与所述不透氧层相对的所述机械损伤层侧面上的表面层;
f)位于所述主体层与所述不透氧层之间的粘结层;和
g)位于所述不透氧层与所述机械损伤层之间的粘结层。
18.权利要求17的薄膜,其中所述表面层包括包含衍生自乙烯的基本单元和任选衍生自乙烯的基本单元,还包括衍生自C4-C12α-烯烃、乙烯基乙酸酯、(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸的C1-C12烷基酯中至少一种的基本单元的聚合物。
19.权利要求1的薄膜,其中所述密封层包括包含衍生自乙烯的基本单元和任选衍生自乙烯的基本单元还包括衍生自C4-C12α-烯烃、乙烯基乙酸酯、(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸的C1-C12烷基酯中至少一种的基本单元的聚合物。
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