[发明专利]金属表面处理

说明书

本发明涉及一种处理金属表面的方法，特别是为改良其附着性的处理方法。

我们已公布的专利中请WO96/23037叙述一种处理金属表面的方法，为的是改良铝或铝合金的附着性，其中包括用有机硅烷处理清洁的金属表面并将该表面在激光下曝光。

我们现已出乎意料地发现，有机硅烷和激光处理也适合于其他金属表面在粘合之前的预处理或表面附着性很重要的其他处理，还适合于并非清洁的铝或铝合金表面的预处理。

因此，本发明提供一种处理金属表面而不是清洁的铝或铝合金表面的方法，其中包括用有机硅烷处理表面和激光照射该表面。

金属表面可以是任何金属。合适的金属实例包括：例如钢，不锈钢，铁氧体形式的铁，钛，镁，铜，金，镍或铬，或者所述金属的合金。金属表面还可以是并非清洁的铝或铝合金表面。

可用有机硅烷和激光以任一次序来处理金属表面。但是优选首先将有机硅烷涂覆金属表面，再将涂覆的表面在激光下曝光。

也可以先让激光照射表面，涂覆有机硅烷，然后再激光照射表面。

金属表面可以是清洁的；例如一般使用任何标准的方法脱脂，如用丙酮之类的溶剂擦洗，蒸汽脱脂，用或不用超声处理的浸洗或者使用碱性脱脂剂。本发明方法还可用来处理非清洁金属表面，例如在其为油性时或者在其老化时。

有机硅烷是通式Ⅰ的化合物

               R_nSi(OR¹)_m               (Ⅰ)其中R反应性或非反应性的有机基团，R¹是烷基，烷氧基烷基或酰基，n是1或2,m是2或3且n+m=4。其中优选n是1和m是3。

有机基团R的实例包括烷基，苯基，乙烯基，丙烯酰烷基(acrylatoalkyl)，缩水甘油氧基烷基等，这里的“烷基”有1-4个碳原子。

当R¹是烷基时，优选1-4个碳原子的低级烷基，更优选甲基或乙基。当R¹是烷氧基烷基时，每个烷基部分有1-4个碳原子。更优选烷氧基烷基R¹是甲氧基甲基。当R¹是酰基时优选有2-4个碳原子，更优选是乙酰基。

合适的特定硅烷实例是：

CH₂=C(CH₃)COO(CH₂)₃Si(OCH₃)₃

CH₂-CHCH₂O(CH₂)₃Si(OCH₃)₃

CH₃Si(OCH₃)₃

C₆H₅Si(OCH₃)₃

CH₃(CH₂)₂Si(OCH₃)₃

HS(CH₂)₃Si(OCH₃)₃

CH₂=CHSi(OOCCH₃)₃

CH₂=CHSi(OCH₂CH₃)₃

CH₂=CHSi(OCH₃)₃

C(CH₂)₃Si(OCH₃)₃和CH₂=CHSi(OCH₂CH₂OCH₃)₃

可以以水或一种有机溶剂的溶液形式使用该硅烷。

如果以水作溶剂且硅烷难以溶解，则在加硅烷之前可向水中添加少量的非离子湿润剂。作为选择，可使用一种硅烷乳剂。