[发明专利]分子污染控制系统

权利要求书

1．一种用于清洁半导体制造材料环境到所希望的相对湿度，含氧量及尘粒水平的系统，包括：

一模块化隔离舱，具有限定一用于半导体制造材料的室的壳体，所述壳体包括一基础；

一入口，设置在所述基础上，用于接纳气态工作流体到所述模块化隔离舱，以用所述气态工作流体清洁所述模块化隔离舱，所述入口包括一单向阀和过滤器总成，用以允许所述气态工作流体单向流入所述模块化隔离舱及用以过滤所述流入模块化隔离舱内的气态工作流体；

一出口，设置在所述基础上，用于从所述模块化隔离舱内除去所述气态工作流体，所述出口包括一单向阀总成，用以允许从所述模块化隔离舱内除去的气态工作流体单向流动；

一气态工作流体源，用于清洁所述模块化隔离舱；以及

一分子污染控制基础总成，具有一气态工作流体供给口，与所述气态工作流体源流体连通，所述基础总成气态工作流体供给口，适于与所述模块化隔离舱入口以密封的流体连通状态配合，并且所述分子污染控制基础总成具有一基础总成排放口，适于与所述模块化隔离舱出口以密封的流体连通状态配合。

2．如权利要求1的系统，其中所述入口包括一入口塔，其具有多个间隔开的孔。

3．如权利要求2的系统，其中所述间隔开的孔包括一系列喷嘴，其尺寸分级变化。

4．如权利要求1所述的系统，其中所述入口包括一入口塔，其具有多个间隔开的放射状槽口。

5．如权利要求1的系统，其中所述出口包括一出口塔，其具有多个间隔开的孔。

6．如权利要求1的系统，其中所述出口包括一出口塔，其具有多个间隔开的放射状槽口。

7．如权利要求1的系统，其中所述分子污染控制基础总成还包括一真空泵，其与基础总成排放口流体连通，以从所述模块化隔离舱内去除所述气态工作流体，尘粒污染物，氧，以及气态工作流体中夹带的湿气。

8．如权利要求1的系统，其中所述分子污染控制基础总成包括多对所述基础总成气态工作流体供给口以及所述基础总成排放口，用以匹配地接受多个所述模块化隔离舱。

9．如权利要求1的系统，其中所述分子污染控制基础总成包括一干燥室，其含有干燥剂用以干燥供给所述模块化隔离舱的所述气态工作流体。

10．如权利要求1的系统，其中所述分子污染控制基础总成包括一加热器用以加热供给到所述分子隔离舱的所述气态工作流体到约100℃至120℃之间的温度。

11．如权利要求1的系统，其中所述分子污染控制基础总成包括一传感器，用以监控供给到所述模块化隔离舱的所述气态工作流体的相对湿度。

12．如权利要求1的系统，其中所述分子污染控制基础总成包括一个传感器，用以监控供给到所述模块化隔离舱的所述气态工作流体的含氧量。

13．如权利要求1的系统，其中所述分子污染控制基础总成包括一个传感器，用以监控供给到所述模块化隔离舱的所述气态工作流体的尘粒含量。

14．如权利要求1的系统，其中所述分子污染控制基础总成包括一个传感器，用以监控供给到所述模块化隔离舱的所述气态工作流体的相对湿度。

15．如权利要求1的系统，其中所述分子污染控制基础总成包括一个传感器，用以监控从所述模块化隔离舱出来的所述气态工作流体的氧含量。

16．如权利要求1的系统，其中所述分子污染控制基础总成包括一个传感器，用以监控从所述模块化隔离舱出来的所述气态工作流体的尘粒含量。