[发明专利]旋转处理装置及方法

说明书

本发明涉及一种被处理物一边旋转，一边洗净处理，接着进行干燥处理的旋转处理装置及方法。

例如在液晶制做装置、半导体制做装置上，要求对液晶玻璃板、半导体晶片等被处理物，进行高清洁度的洗净，并干燥。为了洗净并干燥被处理物，使被处理物一边旋转，一边喷射纯水等处理液洗净，接着停止喷射处理液，用旋转来进行干燥。

为进行这样的处理，使用旋转处理装置。旋转装置有一个罩体。在罩体内装有驱动旋转件旋转的驱动装置。旋转件的上面放置并固定着被处理物。在罩体上方装有向被处理物喷射处理液的喷咀。

喷咀把处理液喷向被处理物，该被处理物的整个上表面能被洗净处理。

例如：被处理物用药液洗净处理的情况下，用药液洗净后，同样要喷射作为处理液的纯水，进行漂洗处理，接着在不供给处理液的状态下，使被处理物旋转，对漂洗好的被处理物进行干燥处理。

在罩体内部由于旋转件的旋转，以及向被处理物上喷射处理液，会产生水雾，这种水雾再附着在洗净处理或干燥处理后的被处理物上而污染被处理物。

于是在罩体底部上，连接着排气管，把罩体内浮游的水雾和气体吸引排出，防止水雾在被处物上再附着。

从旋转的被处理物上，水雾沿径向的外方高速飞散，冲击罩体内周面后，发生反射。在罩体内周面反射后的水雾，被吸引到排气管，从罩内排出。

然而，在罩体内周面上反射后的水雾，其反射方向很难确定，其中一部分散乱在罩体内排气管发生的吸引力作用不到的地方。因此，这一部分水雾不能顺着由排气管引力产生的气流排出，会再附着到被处理物上。

上述罩体是由下罩和相对于下罩可自由移动的上罩构成。因此，把被处理物从旋转件上装卸的时候，要降下上罩露出旋转件，例如，用机械手进行操作。

像这样结构的罩体，为了上罩能自由地上下移动，必须在上下罩之间留有间隙。为了排出罩内气体，须使排气管产生吸引力，此吸引力会通过上下罩的间隙吸入大气。因为通过上下罩的大气由于含有尘埃，会污染被处理物。

如果上下罩间不留间隙，当上罩上下移动时，由滑动产生的尘埃会不可避免地附着在被处理物上，因此，还是留有间隙好。

进而，由排气管吸引排出罩内气体时，如果罩内产生的气流方向与排气管在罩内产生的吸引力方向不同，那么罩内的水雾难以流畅地流向排气管。其结果是罩体内水雾浮游着，有水雾附着到被处理物上的问题。

本发明的目的是提供一种被处理物不被污染的旋转处理装置及方法，不产生由罩体内发生的水雾污染被处理物，也不会产生由上下罩间隙侵入到罩内的大气对被处理物的污染等问题。

本发明的一个最佳实施例，是旋转处理被处理物的旋转处理装置，其特征为：

由下罩及相对于下罩有固定间隙，且可以上下自由移动的上罩组成罩体；

罩体内装有放置并固定被处理物的旋转件；

驱动旋转件转动的驱动装置；

在下罩底部连接有进行罩体内排气的排气管；

在上述上罩的内周面上装有一个飞散防止盖，盖在旋转件上的被处理物的周围。

这样一来，从旋转的被处理物飞散，并在上罩内周面上反射后的水雾中，欲向被处理物上侧返回的部分，会与飞散防止盖的外周面冲撞而被停滞，由于难于向周围飞散而易于吸引到排气管，可防止附着于被处理物上。

本发明的另一个最佳实施例，是旋转处理被处理物的旋转处理装置，其特征为：

由下罩及相对于下罩具有固定间隙，且可以上下自由移动的上罩构成罩体；

罩体内装有放置并保持被处理物的旋转件；

有驱动旋转件转动的驱动装置；

在下罩底部连接有进行罩体内排气的排气管；

在上下罩的间隙处盖有大气侵入防止盖。

这样一来，即使使用排气管吸出内部气体以排出罩体内的水雾，由于有大气侵入防止盖的存在，能防止外部气体从上下罩间隙侵入罩体内。

本发明还有一个最佳实施例，是旋转处理被处理物的旋转处理装置，其特征为：

由下罩及相对于下罩有固定间隙，且可上下自由移动的上罩构成罩体；

罩体内装有保持被处理物的旋转件；

驱动旋转件转动的驱动装置；

在下罩的底部连接有进行罩体内排气的排气管；

罩体内底部，装有把罩内气体导向排气管的导向件。

这样一来，在罩体内发生的水雾和从下罩进入导向件内周面侧的大气，被导向件导向后可从罩体内向排气管顺畅地排出。

本发明的再一个最佳实施例，是利用罩体内装的旋转件旋转处理被处理物的旋转处理方法，其特征为：