[实用新型]生产核径迹膜的连续辐照装置无效
| 申请号： | 97219074.0 | 申请日： | 1997-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN2304175Y | 公开（公告）日： | 1999-01-13 |
| 发明（设计）人： | 张泉荣;严玉顺;万春荣;姜长印 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G21K5/00 | 分类号： | G21K5/00 |
| 代理公司： | 清华大学专利事务所 | 代理人： | 罗文群 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 生产 径迹 连续 辐照 装置 | ||
【权利要求书】：
1、一种生产核径迹膜的连续辐照装置，其特征在于该装置由送膜轴、收膜轴、图案模板、张力轴、驱动轴、压紧轴、图案模板、集成铀靶和准直板组成；需辐照的塑料薄膜缠绕在送膜轴上，塑料薄膜依次经支撑轴、驱动轴后缠绕到收膜轴上；图案膜板紧绷在支撑轴、驱动轴和图案模板张力轴上，压紧轴将图案模板和塑料薄膜压紧；集成轴靶、准直板、图案模板依次设置于塑料薄膜的一侧，图案模板紧靠塑料薄膜；电机通过链条带动驱动轴和收膜轴；
2、如权利要求1所述的装置，其特征在于其中所述的集成铀靶由20～100个单片集成；单片铀靶尺寸为20×20～200×200mm2，铀靶质量厚度为0．1～5mg／cm2；
3、如权利要求1所述的装置，其特征在于其中所述的准直板为多孔或网状薄板。
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