[发明专利]一种高速模拟开关无效

专利信息
申请号: 98100485.7 申请日: 1998-03-05
公开(公告)号: CN1085443C 公开(公告)日: 2002-05-22
发明(设计)人: 石寅;李世祖;朱荣华;王守觉 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H03K17/04 分类号: H03K17/04
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 卢纪
地址: 1000*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 高速 模拟 开关
【权利要求书】:

1.一种双极晶体管的高速模拟开关,其特征在于:它由第一NPN晶体管、第二NPN晶体管、第一PNP晶体管、第二PNP晶体管、第三PNP晶体管共五个晶体管组成,其中所述第一PNP晶体管和所述第二PNP晶体管的发射极和集电极分别相连,组成一对并联PNP晶体管,所述一对并联PNP晶体管中的两个晶体管基极则分别作为所述模拟开关的模拟信号输入端和输入控制端,所述第一NPN晶体管的基极与所述一对并联的PNP晶体管的发射极连接点相连,所述第一NPN晶体管的发射极则作为所述模拟开关的输出端,所述第一NPN晶体管的集电极连接参考工作电压,所述第二NPN晶体管的发射极与所述一对并联的PNP晶体管的集电极连接点相连,并接至电源“地”,所述第二NPN晶体管的集电极与所述模拟开关的输出端相连,所述第二NPN晶体管的基极连接第一偏置电压,所述第三PNP晶体管的集电极和基极分别与所述第一NPN晶体管的基极和集电极相连,所述第三PNP晶体管的发射极连接第二偏置电压。

2.按照权利要求1所述的高速模拟开关,其特征在于:其中所述第一NPN晶体管和所述第三PNP晶体管是在集成电路芯片中共占一个第I隔离区的一个正常结构NPN晶体管和一个横向PNP晶体管,所述正常结构的所述第一NPN晶体管的基极与所述横向的所述第三PNP晶体管的集极有一共用的P+型引接端,在所述第I隔离区芯片基体的表面上设一N+型引接端作为所述参考工作电压的引接端与所述正常结构的所述第一NPN晶体管的集电极以及所述横向的所述第三PNP晶体管的基极连通,在所述第I隔离区的表面上还设有作为所述模拟开关输出端的所述第一NPN晶体管的N+型发射极引接端以及作为所述第二偏置电压引接端的所述第三PNP晶体管的P+发射极引接端。

3.按照权利要求1所述的高速模拟开关,其特征在于:其中所述第二NPN晶体管是在集成电路芯片中一个第II隔离区内的一个正常结构NPN晶体管,在所述第II隔离区的芯片表面上设有与所述隔离区的P+型隔离墙连接并接地的所述第二NPN晶体管的N+型发射极引接端,用作所述第二偏置电压引接端的所述第二NPN晶体管的基极引接端,以及与所述模拟开关输出端相连的所述第二NPN晶体管的N+型集电极引接端。

4.按照权利要求1所述的高速模拟开关,其特征在于:其中所述第一和第二PNP晶体管是分别在集成电路芯片中一个第III隔离区和一个第IV隔离区内的各一个以N型芯片基体作基区的沿芯片纵深方向设置的垂直向结构的第一和第二PNP晶体管,在所述第III和第IV隔离区的芯片表面上分别设有连接在一起的所述第一和第二PNP晶体管的P+型发射极引接端以及分别作为所述模拟开关的输入信号控制端和输入端的第一和第二PNP晶体管的N+型基极引接端,所述第一和第二PNP晶体管的集电极共同设置在所述集成电路芯片的P-型衬底上并接地。

5.按照权利要求4所述的高速模拟开关,其特征在于:其中所述集成电路芯片中第I隔离区内所述第一NPN晶体管的基极与所述第三PNP晶体管的集电极的共用P+型引接端与所述集成电路芯片中所述第III和第IV隔离区的所述第一和第二PNP晶体管的P+型发射极引接端连接在一起。

6.按照权利要求5所述的高速模拟开关,其特征在于:其中所述集成电路芯片中所述第III和第IV隔离区的所述第一和第二PNP晶体管的P+型发射极引接端与所述集成电路芯片中第I隔离区内所述第一NPN晶体管的基极与所述第三PNP晶体管的集电极的共用P+型引接端连接在一起。

7.按照权利要求1所述的高速模拟开关,其特征在于:所述第一、第二和第三PNP晶体管是在集成电路芯片中以所述芯片的N型基体材料作基区并沿基片水平或纵深方向设置的横向或垂直向的PNP晶体管。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所,未经中国科学院半导体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/98100485.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top